Maskeprosesskorreksjon (MPC) for krumlinjede design
Calibre NMCLMPC utfører Mask Process Correction (MPC) for inndataoppsett med krumlinjede polygoner, for eksempel de som produseres av Inverse Lithography Technology (ILT) OPC, samt silisiumfotoniske strukturer.
Innovativ krumningsbasert fragmentering
Den krumningsbaserte fragmenteringen i Calibre NMCLMPC-motoren bestemmer kantfragmentlengde basert på lokal krumning og gir utdata som er mulig for krumlinjet MPC-korreksjon. Denne funksjonen forsøker å samoptimalisere filstørrelse, nøyaktighet og utførelsestid for korreksjon av krumlinjet maskeprosess.
Mulighet for å oppnå rask konvergens
Calibre NMCLMPC kan brukes med krumningsbasert forhåndsforspenning for å muliggjøre rask konvergens for krumlinjet MPC. Den krumningsbaserte pre-bias-metoden reduserer antall iterasjoner som kreves uten å forringe korreksjonsnøyaktigheten og sparer kjøretid.
Samtidig korreksjonsevne
Calibre NMCLMPC kan korrigere krumlinjede og rektangulære former i en kjøring ved å bruke de samme reglene som i en standardoppskrift på de rektangulære figurene.
Klar til å lære mer om Calibre?
Vi står klar til å svare på spørsmålene dine! Ta kontakt med teamet vårt i dag
Ring: 1-800-547-3000
Calibre konsulenttjenester
Vi hjelper deg med å ta i bruk, distribuere, tilpasse og optimalisere dine komplekse designmiljøer. Direkte tilgang til ingeniør- og produktutvikling lar oss utnytte dyp domene- og fagkompetanse.
Støttesenter
Siemens Support Center gir deg alt på ett brukervennlig sted -
kunnskapsbase, produktoppdateringer, dokumentasjon, støttesaker, lisens/bestillingsinformasjon og mer.
Kaliber IC-design og produksjon
Calibre-verktøypakken leverer nøyaktig, effektiv, omfattende IC-verifisering og optimalisering på tvers av alle prosessnoder og designstiler samtidig som ressursbruk og tapeout-planer minimeres.