Hvorfor Calibre NMclbias?
Ettersom avansert litografi beveger seg utover tradisjonelle Manhattan-geometrier, stemmer ikke maske- og wafer-realiteter lenger overens med idealiserte rettlinjede designintensjoner. Med avrundede hjørner, økende mønsterkompleksitet og økningen av krumlinjede maskestrømmer muliggjort av skrivere av flerstrålemasker, hjelper Calibre NMCLbias til å støtte bransjens skifte mot mer nøyaktig, produserbar mønsterrepresentasjon for neste generasjons prosesser.


