Calibre Curvilinear MDP

Mønsterkrav til neste generasjons litografiske prosesser og behovet for å holde produksjonskostnadene nede har presset litografer til å utforske fordelene med de krumlinjede maskene. Flere studier støttet av de eksperimentelle resultatene har vist den litografiske fordelen med krumlinjede fotomasker fremfor rettlinjede tilnærminger. Produserbarheten til krumlinjede masker har vært begrenset på grunn av arkitekturen til de variabelt formede stråleskriverne, noe som gjorde det uoverkommelig for både maskedatabehandling og maskeskrivingsperspektiver. Tilgjengeligheten av flerstrålemaskeforfattere har fjernet disse veisperringene og brakt introduksjonen av krumlinjede masker mye nærmere virkeligheten.

Lese Kurver fremover! IC-produksjon forbereder seg på krumlinjede masker for å lære mer om fordelene med krumlinjede masker.

Verktøypakken Calibre Curvilinear MDP muliggjør sømløs videreføring av datamanipulasjonene som kreves for Resolution Enhancement Techniques (RET), for eksempel innsetting av Sub-Resolution Assist Features (SRAF) og Optical Process Correction (OPC), og Mask Process Correction (MPC) til maskedataformatkonvertering i én batchkjøring.

Tradisjonelt har multistrålemaskeforfattere støttet Piecewise-Linear (PWL) data i sine dataveier. Nylig har leverandører av multistrålemaskeskrivere introdusert innebygd multigon-støtte på ny generasjon multistrålemaskeskriververktøy. Formålet med multigon er å representere krumlinjede data med naturlig kurveformat for komprimering av filstørrelse i maskestrømmene. Antallet knekkpunkter som brukes til å representere multigondataene er vesentlig færre enn knekkpunktene som brukes til å representere Piecewise-Linear-dataene, noe som resulterer i reduksjon av filstørrelse fra bruk av opprinnelige kurver for krumlinjede data.

Bildet nedenfor viser et eksempel på PWL til venstre og multigon til høyre.

Calibre Curvilinear MDP-løsningen støtter flerstrålefrakturstrømmer basert på multigon og er aktivert med de nyeste multistråleformatene som MBW 3.0 fra IMS og MBF 2.1 fra NuFlare.

• Multigon-avstandskontroll: Multigon-avstandskontrollen er utformet for å måle avstanden mellom punktseksjoner på multigonlag, og sikre samsvar med designbegrensninger.
• Multigon-dybdebredde- og dybdebreddeforholdskontroller: Dybdebreddekontrollen sikrer at minimumsbredden til en multigonform er innenfor det akseptable området, spesielt når det måles i et gitt dybdeområde.
• Multigon-vinkelkontroll: Vinkelkontrollen evaluerer multigonens geometri ved å beregne punktkurvevinkelen ved hvert interessepunkt (POI) for en spesifisert radius.
• Multigon krumningskontroll: Krumningskontrollen er designet for å vurdere glattheten og bøyningskvaliteten til hver Bezier-spline-seksjon innenfor en multigon ved å beregne minste krumningsradius langs konturen.

Bildet over viser eksempler på ekstern avstandskontroll (øverst til venstre), intern avstandskontroll (øverst til høyre), piggdeteksjon (nede til venstre) og dybdebreddekontroll (nede til høyre).