Calibre EUV

EUV, eller Extreme Ultraviolet, litografi er en teknologi som bruker en veldig liten bølgelengde av lys (13,5 nm) for å skrive ut bilder på silisiumskiver. Det er nødvendig fordi EUVs lille bølgelengde, som er mindre enn funksjonsstørrelsen, gjør utskrift mye enklere og er avgjørende for å oppnå mønsteroppløsning for avanserte produksjonsteknologiske noder som 5nm, 3nm og utover.

Calibre modellerer alle unike EUV-optiske effekter som flare, som inkluderer både kort- og langdistanseeffekter. Calibre støtter dynamisk modellgenerering for domenedekomponeringsmetode for å tillate kontinuerlig modellering av asimutal vinkel, aberrasjoner, apodisering og kildevariasjonen over spalten uten tap av nøyaktighet. 3D-maskeeffekter som skyggeeffekten forårsaket av den tykke maskeabsorbenten og belysning utenfor aksen, som varierer over spalten, kan kompenseres nøyaktig. Calibre modellerer også den svarte kanteffekten for å eliminere bildevirkningen gjennom OPC. Kaliber er også forberedt for High NA EUV. Calibre er utstyrt med nye funksjoner og funksjonaliteter for å støtte anamorfisk optikk fra modellering gjennom OPC.

SRAF-er er sannsynligvis et krav for 5nm-noden og nedenfor i EUV-litografi. SRAF-er har en positiv innvirkning på bildeloggskråningen (ILS) og reduserer dermed linjekantgrovhet (LER) og forbedrer dybden av fokus (DOF). På grunn av EUVs belysning utenfor aksen og varierende skyggeeffekter gjennom splittelse, kan asymmetriske SRAF-er være nødvendig i både horisontal og vertikal retning, og forskjellige SRAF-er kan være nødvendige på forskjellige spalteplasser.

Calibers SRAF-løsning kan bruke EUV-modeller for SRAF-plassering. Calibre PxOPC kan generere asymmetriske SRAF-er og kan justeres for å målrette mot DOF, ILS eller en blanding av mål. Calibre NMSraf kan generere regelbaserte SRAF-er ved å bruke PxOPC-resultater som mal og kan plassere SRAF-er asymmetrisk. Caliber NMCLSraf gir fleksibilitet for friformede SRAF-former fra Inverse Lithography-motor. Den bruker maler sekvensielt, utfører opprydding for MRC-konflikter og kan generere krumlinjede SRAF-er på EUV-masker.

High NA (Numerical Aperture) EUV er en utvikling av EUV-litografi (fra dagens 0,33 NA til> = 0,5 NA) som kreves for å oppnå mønsteroppløsning for avansert teknologinode. Calibre er allerede forberedt på High NA EUV. Calibers modellerings- og maskesynteseprodukter støtter allerede anamorf optikk fra modellering gjennom OPC og til MPC/MDP. Caliber EUV OPC med flere mønstre er produksjonsprøvet, og Calibre Source Mask Optimization (SMO) inkluderer også avanserte funksjoner for EUV med høyt NA.

Calibre tilbyr en komplett design gjennom produksjonsflyt for EUV-applikasjoner. Calibers EUV-løsninger løser utfordringer ved å tilby:

Full modelleringsstøtte for EUV - Calibers modelleringsteknologi støtter fullt ut alle EUV-effekter, inkludert bluss, svart kanteffekt og 3D-maskeeffekter.

Omfattende produktpakke - Alle modellerte effekter er redegjort for i Calibre-produkter som Calibre PxSMo, Calibre PxOPC, Calibre nMOPC, Calibre NMSraf og Calibre OPCVerify, som brukes i tapeout i dag.

Hierarkisk databehandling - Calibre EUV-flyt er utformet etter hovedhierarkiet mens du bruker komplette globale EUV-modeller, noe som muliggjør rask og nøyaktig OPC-flyt.

Krøllinjet databehandling - Calibre Curvilinear Data Preparation Solutions kan aktiveres på tvers av hele EUV-maskeutgangsflyten.

Utnytt AI for nøyaktighet i neste node - Calibre EUV inkluderer avanserte maskinlæringsteknikker for å akselerere maskesyntese, og tilbyr betydelige kjøretidsforbedringer samtidig som litografikvaliteten opprettholdes.