Produkt
all
Calibre EUV
Omf@@
attende støtte for å adressere de unike utfordringene med EUV med høy NA, for eksempel anamorfisk optikk og maske 3D-modellering for å ta hensyn til skyggeeffekter.
Calibre Computational Lithography
Den umettelige etterspørselen etter integrerte kretser (IC) fortsetter å drive mindre kritiske dimensjoner. Fotolitografiprosesser, inkludert ekstrem ultrafiolett (EUV), presenterer stadig mer kompleksitet og datavolum. Våre beregningslitografiløsninger muliggjør kostnadseffektiv teknologiaktivering.
Calibre Computational Lithography Produkter
Både de litografiske utfordringene og beregningskompleksiteten knyttet til avanserte prosessnoder skaper et behov for avanserte evner innen databehandlingslitografiprogramvare og maskinvare. Calibre-løsningen gir klassens beste nøyaktighet, hastighet og eierkostnader.
Produkt
all
Calibre nmOPC
Tett optisk nærhet og prosesskorreksjon for å muliggjøre dyp submikronproduksjon.
Produkt
all
Calibre nmSRAF
S@@
etter inn underoppløsningsassistentfunksjoner (SRAF-er) i et design.
Produkt
all
Calibre OPCverify
Kraftig full-chip simulering og litografisk analyse.
Produkt
all
Calibre WORKbench
GUI brukes til å starte et bredt utvalg av applikasjoner og for å se resultater.
Produkt
all
Kaliber NMModelFlow
S@@
vært skalerbar kalibreringsmotor for optiske modeller, motstandsmodeller og etsmodeller.
Produkt
all
Calibre pxOPC
Rask, invers pikselbasert optisk nærhetskorreksjon.
Produkt
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Enkel å bruke GUI for optimalisering av belysningskilde.