Calibre IC Manufacturing Løsninger

En komplett ende-til-ende-løsning inkludert alle krøllete dataforberedelsestrinn fra retargeting til SRAF, OPC, MPC og MDP som adresserer de krumlinjede maskegenereringsbehovene til spesialapplikasjoner (SiPH) og minnedesign.

Teknologiaktivering for fotolitografiprosesser, inkludert ekstrem ultrafiolett (EUV). Calibre beregningslitografiverktøy gir forbedret nøyaktighet, hastighet og reduserte eierkostnader.

Aktiverer konvertering av maskedataformat og verifiseringsoppgaver for maskefabrikasjon, inkludert de nyeste multistrålemaskeformatene i en fullt kompatibel Calibre-plattform.

Gir optimaliseringer for e-strålemaskeforfattere. Nye korreksjons- og modelleringsfunksjoner forbedrer maskekritisk dimensjons linearitet og ensartethet for avanserte noder.

Møter utfordringene med administrasjon av produksjonskapasitet og systemutnyttelse, samtidig som du oppnår raske behandlingstider til tross for stadig økende kompleksitet og datavolum.

Forbedrer produktutbyttet og gir raskere oppfølging ved å strukturere og analysere enorme datamengder, lage prediktive maskinlæringsmodeller og generere handlingsbar analyse.

Calibre tilbyr en komplett flytinfrastrukturløsning som leverer overlegen kjøretid og konsistens for å oppfylle produksjonskravene til minneenheter og produkter med svært repeterende arrayer.

Calibre DFM-verktøypakken inkluderer avkastningsanalyse, utskriftbarhet, og ytelsesvalideringsverktøy for å forbedre utbyttet og optimalisere IC-design.