
Samarbeid med TSMC for å fremme AI
Siemens kunngjorde i dag videreføring av samarbeidet med TSMC for å drive innovasjon innen AI-drevet automatisering og avansert halvlederdesignaktivering.

Siemens EDA er bevist i den daglige driften i designselskaper og støperier, og støtter fabeløse økosystemer med samarbeid, innovasjon og støpespesifikke prosessflyter som bygges, testes og sertifiseres.
Siemens EDA-verktøy er bevist ved halvlederstøperier over hele verden. Samarbeid med store støperier sikrer den tidligste tilgangen til verktøyene som trengs for avanserte produksjonsprosesser, samt funksjonaliteten og ytelsen som kreves for fortsatt suksess ved etablerte prosessnoder.
GlobalFoundries Inc. (GF) er en av verdens ledende halvlederprodusenter, og tilbyr en unik blanding av design, utvikling og fabrikasjonstjenester for både ledende og vanlige teknologier. GlobalFoundries omdefinerer innovasjon og halvlederproduksjon ved å utvikle og levere funksjonsrike prosessteknologiløsninger som gir lederegenskaper i gjennomgripende markeder med høy vekst. GlobalFoundries og Siemens EDA samarbeider ofte om et bredt spekter av prosjekter for å forbedre produktiviteten og resultatene av design, verifisering, og produksjonsprosesser for sine felles kunder.
Siemens EDA IC-portefølje | Fysisk verifisering | Dobbel/Multi-mønstring | Mønstertilpasning (DRC +) | LVS | Parasittisk ekstraksjon | PERC | Strømintegritet og EM¹ | LFD | Fylle² | DFM-poengsum | CAA | Custom Design | Sted og rute | Kretssimulering |
12 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | |
14 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | |
22 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | REQ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ |
28 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | ||
40 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | |||
45 nm³ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ||||||
65/55 nm | ✔ | ✔ 4 | ✔ | ✔ | ✔ 5 | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | |
90 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | ||||||
0,13um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | ||||||
0,18um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | ||||||||
> = 0,35um | ✔ | ✔ | ✔ | ● |
✔: sertifisert; REQ: kun etter serviceforespørsel
[1]: mPower Digital er sertifisert for alle teknologinoder. Analog støttes ikke offisielt av GF, men mPower-produktteamet kan støtte kunder på forespørsel.
[2]: Calibre SmartFill er POR (Plan of Record) under 20 nm og Dummy Fill over 20 nm.
[3]: 45nm prosessnode støtter RF SOI CMOS-teknologi spesifikt.
[4]: 55nm har et DRC+-sett, men 65nm gjør det ikke.
[5]: Caliber PERC dekk er kun tilgjengelig for 55LP PDK, men ikke for andre 65/55nm PDK-er.
●: Tekniske filer vil bli levert av Siemens for de prosessnodene som ikke er sertifisert. Ta kontakt med Aprisas produktteam angående dine forespørsler.
Intel Foundry tilbyr et bredt spekter av produksjonstjenester for å møte dine unike produktbehov, fra maskegenerering til wafer-produksjon til bransjeledende sorterings- og testfunksjoner. Intels avanserte emballasjeteknikker tillater integrering av forskjellige databehandlingsmotorer på tvers av flere prosessteknologier med ytelsesparametere som ligner på en enkelt matrise, men med et plattformsomfang som langt overstiger grensen for stansestørrelse for enkeltdyse-integrasjon. Som en global leder innen forskning og utvikling (FoU) og produksjon, søker Intel kontinuerlig å optimalisere og levere bransjeledende plattformløsninger med kundene våre for alle eksisterende og utviklende markedssegment.
Intel Foundry Accelerator - EDA Alliance er forpliktet til å etablere et økosystem for design og fabrikasjon av neste generasjons system-on-chip (SoC) produsert på Intel Foundry ledende prosessteknologier. Initiativet fremmer samarbeid mellom Intel Foundry og dets økosystempartnere, med fokus på å redusere risiko og takle designbarrierer samtidig som tiden til markedet akselereres for gjensidige kunders produkter. Som en del av alliansen vil Siemens EDA samarbeide tett med Intel Foundry for å optimalisere sine beste IC-designverktøy, flyter og metoder for Intels prosesser i verdensklasse.
Intel støperiakselerator - EDA Alliance
Siemens EDA | Prototyping/Design | Fysisk verifisering | Dobbel/Multi-mønstring | Mønstertilpasning | LVS | Parasittisk ekstraksjon | Termisk analyse | PERC | Smart fylling | Kretssimulering |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
14 Angstrom-klasse (14A) | ✔ | Utført av Foundry | ✔ | CCI til StarRC | ✔ | ✔ | ✔ | |||
18 Angstrom-klasse (18A) | ✔ | Utført av Foundry | ✔ | CCI til StarRC* | ✔ | ✔ | ✔ | |||
7 nm (Intel3) | ✔ | Utført av Foundry | ✔ | ✔ | CCI til StarRC | ✔ | ✔ | |||
16 nm (Intel16) | ✔ | ✔ | CCI til StarRC | ✔ | ✔ | ✔ | ||||
EMIB | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||||
EMIB-T | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ |
✔: sertifisert (fra juli 2026)
[*]: xACT ble aktivert for parasittisk ekstraksjon på Intel Foundry 18A prosessnode, men ikke utgitt til eksterne kunder.
Den innebygde multi-die-sammenkoblingsbroen (EMIB) er et lite stykke silisium som er innebygd i et organisk pakkesubstrathulrom. Det gir en høyhastighets grensesnittbane med høy båndbredde fra die til die. Siemens tilbyr en sertifisert designflyt fra samdesign av stanse/pakker, funksjonell verifisering, fysisk layout, termisk, SI/PI/EMIR-analyse og monteringsverifisering.
Samsung Foundry tilbyr konkurransedyktige prosesser, designteknologier, IP og produksjonskapasitet med høyt volum for kunder med en komplett pakke med avanserte prosessteknologier, inkludert integrerte pakkeløsninger for 3D/2.5D og fleksible og effektive skybaserte designmiljøer. Som partner i Samsung Advanced Foundry Ecosystem (SAFE™) -programmet, Siemens EDA engasjerer seg i fellesprosjekter med Samsung Foundry for å gjøre det mulig for de avanserte plattformene og teknologiene deres felles kunder stoler på for å bringe stadig mer sofistikerte design til live.
Siemens EDA IC-portefølje | Fysisk verifisering | Dobbel/Multi-mønstring | Mønstertilpasning (avkastningsnedsettere) | LVS | Parasittisk ekstraksjon | PERC | Strømintegritet og EM¹ | LFD | Fylle² | DFM-poengsum | Sted og rute | Kretssimulering |
2nm (SF2*) | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||
3 nm (SF3*) | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||
4 nm (SF4*) | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | |
5 nm (SF5*) | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ |
7 nm (SF7*) | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | |
11 nm/8 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ |
14 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ |
28FDS | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||
28 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | |||
90 nm/70 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | |||||||
0,18um/0,13 um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● |
✔: sertifisert (fra juli 2026)
[1]: mPower Analog er sertifisert for 4LPP, 14LPU, LL1318GPF, og mPower Digital er sertifisert for 5LPE.
[2]: Calibre SmartFill er POR (Plan of Record) under 20 nm og Dummy Fill over 20 nm.
●: Tekniske filer vil bli levert av Siemens for de prosessnodene som ennå ikke er sertifisert. Ta kontakt med Aprisas produktteam for dine forespørsler.
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) var banebrytende for forretningsmodellen for ren støperi. Ved å velge å ikke designe, produsere eller markedsføre noen halvlederprodukter under eget navn, har nøkkelen til TSMCs suksess alltid vært å fokusere på kundenes suksess. TSMC-produserte halvledere betjener en global kundebase som er stor og mangfoldig, med et bredt spekter av applikasjoner som brukes i en rekke sluttmarkeder, inkludert smarttelefoner, høyytelsesdatabehandling, tingenes internett (IoT), bilindustri og digital forbrukerelektronikk.
TSMC EDA Alliance reduserer designbarrierer for kundeadopsjon av TSMC-prosessteknologier. Som EDA Alliance-partner jobber Siemens EDA tett med TSMCs designteknologiteam for å møte gjensidige kundedesignbehov gjennom aktivering av nye EDA-verktøyfunksjoner som samsvarer med TSMC avansert veikart for prosessutvikling, samt implementering av TSMCs designmetodikk i referansestrømmer. Gjennom dette samarbeidet gjør TSMC og Siemens EDA det mulig for gjensidige kunder å bedre nå sitt PPA-mål på kortere tid.
Siemens EDA IC-portefølje | Prototyping/Design | Fysisk verifisering | Dobbel/Multi-mønstring | Mønstertilpasning | LVS | Parasittisk ekstraksjon | PERC | Strømintegritet og EM | Fylle¹ | Custom Design | Sted og rute | Kretssimulering |
14 Angstrom-klasse (A14) | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | VISP | ✔ | VISP | ✔ | ||
16 Angstrom-klasse (A16) | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||||
2 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ ² | ✔ | ✔ [3] | ✔ | ||
3 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ ² | ✔ | ✔ | ✔ | ||
4 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||
5 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||
7 nm/6 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | VISP | ✔ | ✔ | |
16 nm/12 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | |||
28 nm/22 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||||
45 nm/40 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | |||||
65 nm/55 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | |||||
90 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | ||||||
0,13um/0,11um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | ||||||
> = 0,18um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ● | ✔ | ||||||
Info_OS | ✔ | ✔ | ||||||||||
Info_pop | ✔ | ✔ |
✔: sertifisert; WIP: arbeid pågår (fra juli 2026)
[1]: Calibre SmartFill er POR (Plan of Record) under 20 nm og Dummy Fill over 20 nm.
[2]: mPower Analog er fullt sertifisert mens mPower Digital-sertifisering pågår for den nyeste prosessderivatvarianten.
[3]: Aprisa 2nm-støtte for den nyeste prosessderivatvarianten er tidlig tilgang fra og med i dag. Jobber for tiden med Tier-1-kunder på N2-produksjonstape.
●: Tekniske filer vil bli levert av Siemens for de prosessnodene som ennå ikke er sertifisert. Ta kontakt med Aprisas produktteam for dine forespørsler.
Vårt pågående samarbeid med TSMC har vellykket resultert i automatisert arbeidsflytsertifisering for deres iNFO-integrasjonsteknologi som er en del av 3DFabric plattform. For gjensidige kunder tillater denne sertifiseringen utvikling av innovative og svært differensierte sluttprodukter ved hjelp av klassens beste EDA-programvare og bransjeledende avanserte emballasjeintegrasjonsteknologier.
Våre automatiserte Info_OS og Info_pop designarbeidsflyter er Nå sertifisert av TSMC. Disse arbeidsflytene inkluderer Innovator3D IC, HyperLynx DRC, og Calibre nmDRC teknologier.
Som definert av TSMC, er iNFO en innovativ plattform for systemintegrasjon på wafer-nivå, med RDL med høy tetthet (Re-Distribution Layer) og TIV (Through InFo Via) for sammenkobling med høy tetthet og ytelse for forskjellige applikasjoner, for eksempel mobil, databehandling med høy ytelse osv.. Info-plattformen tilbyr ulike pakkeskjemaer i 2D og 3D som er optimalisert for spesifikke applikasjoner.
Info_OS utnytter Info-teknologi og har høyere tetthet 2/2µm RDL-linjebredde/plass for å integrere flere avanserte logiske chipletter for 5G-nettverksapplikasjon. Det muliggjør hybridputehøyder på SoC med minimum 40 μm I/O-stigning, minimum 130 μm C4 Cu bump pitch og> 2X retikkelstørrelse InFo på> 65 x 65 mm underlag.
Info_pop, bransjens første viftepakke på 3D-wafer-nivå, har RDL og TIV med høy tetthet for å integrere mobil AP m/DRAM-pakkestabling for mobilapplikasjon. Sammenlignet med FC_pop har Info_pop en tynnere profil og bedre elektriske og termiske ytelser på grunn av ingen organisk substrat og C4-støt.
Integrerer logikk og minne i 3D-målretting, AI og HPC. Innovator3D IC lager, optimaliserer og administrerer en 3D-modell av hele CowOS-enhetsenheten.
Innovator3D IC lager, optimaliserer og administrerer en 3D digital tvillingmodell som driver detaljert design og verifisering.
Innovator3D IC optimaliserer og administrerer en 3D digital tvillingmodell som driver design og deretter verifisering med Calibre-teknologier.
Tower Semiconductor tilbyr avanserte analoge teknologier og produksjonsløsninger for forkant av verdens mest spennende og voksende arenaer, for eksempel bil-, forbruker-, medisinsk, industri- og romfart og forsvar, blant andre. Tower Semiconductor spesialiserer seg på tilpassede analoge løsninger for produksjon av differensierte produkter, og tilbyr banebrytende prosessteknologier inkludert radiofrekvens (RF), høytytende analog (HPA), integrert strømstyring, CMOS-bildesensorer (CIS), ikke-bildesensorer (NIS) og blandet signal CMOS, samt mikroelektromekaniske systemer (MEMS) funksjoner. For å utfylle sine avanserte teknologiplattformer tilbyr selskapet også designaktiveringstjenester, som gir modne og verdifulle verktøy som muliggjør en rask og nøyaktig designsyklus.
Siemens EDA IC-portefølje | Fysisk verifisering | LVS | Parasittisk ekstraksjon | PERC | Strømintegritet og EM¹ | Custom Design | Kretssimulering |
45 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | REQ | ||
65 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | REQ | ✔ | |
0,13um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | REQ | ✔ | ✔ |
0,18um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | REQ | ✔ | ✔ |
> = 0,25um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | REQ | ✔ | ✔ |
✔: sertifisert; REQ: etter kundeforespørsel
[1]: mPower støttes for alle noder etter kundeforespørsel.
United Microelectronics Corporation (UMC) tilbyr hybridbinding eller dyser og skiver av høy kvalitet for 3D IC-integrasjon.
Tilbyr høykvalitets IC-fabrikasjonstjenester og ulike spesialitetsteknologier for å betjene alle store sektorer i elektronikkindustrien.
Tilbyr et støperidesignsett for 3D IC-monteringsverifisering og parasittisk ekstraksjon ved hjelp av Innovator3D IC Integrator og Calibre-teknologier. Les pressemelding for mer informasjon.
Siemens EDA IC-portefølje | Fysisk verifisering | Dobbel/Multi-mønstring | LVS | Parasittisk ekstraksjon | PERC | Strømintegritet og EM | LFD | Fylle¹ | CAA | Custom Design | Kretssimulering |
12 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||||||
14 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | VISP | ✔ | ✔ | ||||
17 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | VISP | VISP | ✔ | ||||
22 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||||
28 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ||
40 nm | ✔ | ✔ | ✔ | REQ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | |
65 nm/55 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | |||||
90 nm | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | |||||||
0,13um/0,11um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | |||||
0,18um | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ | ✔ |
✔: sertifisert; WIP: pågående arbeid; REQ: kun etter serviceforespørsel
[1]: Calibre SmartFill er POR (Plan of Record) under 20 nm og Dummy Fill over 20 nm.



