Subresolutie Assist Features (SRAF's) zijn stukjes chroom die strategisch op het masker zijn geplaatst om afdrukbare beelden scherper te maken. SRAF's vormen een fundamenteel onderdeel van maskers, zowel voor maskers in Manhattan als voor kromlijnige maskers, en voor zowel DUV- als EUV-maskers.

Bekijk de Instructievideo voor de Calibre SRAF-oplossing - Waarom SRaf's? over het Ondersteuningscentrum waarin wordt uitgelegd waarom SRAF's nodig zijn.

Calibre NMcLSraf werkt met sjablonen. De sjablonen kunnen ofwel rechtstreeks door de gebruiker worden gedefinieerd, ofwel worden geëxtraheerd uit de resultaten van de ILT-simulatie. De op sjablonen gebaseerde benadering die wordt gebruikt in Calibre NMcLSRAF biedt de flexibiliteit om tegemoet te komen aan de vormvereisten van Calibre PxOpc, een engine voor inverse lithografie (ILT). Deze flexibele vormdefinitie, in combinatie met de snelheid waarmee sjablonen kunnen worden aangebracht, brengen de lithografische kracht van inverse lithografie op een kosteneffectieve manier naar de productiestroom.

Calibre NMcLSRAF evalueert MRC-parameters, zoals de minimale offset voor SRAF-invoeging en de minimale lengte van SRAF's tijdens het genereren van kromlijnige SRAF, en voert MRC-schone SRAF's uit aan het einde van het opruimproces.

SRAF Print Avoidance (SPA) wordt beheerd met de Calibre nMcLOPC-tool. Calibre nMcLOPC detecteert en corrigeert elke afdruk die plaatsvindt rond ondersteunende functies voor subresolutie (SRAF's) of gaten rond antiSRAF's. Als de gecorrigeerde vorm in strijd is met een interne MRC-regel, worden de overtredende delen weggesneden of wordt de hele vorm verwijderd, indien nodig.

Met de migratie naar knooppunten voor geavanceerde technologie worden OPC en RET noodzakelijk om componenten van Silicon Photonics te modelleren. Geavanceerde ontwerpen van siliciumfotonica kunnen complexe kromlijnige vormen vertonen met zeer agressieve kritische afmetingen (CD bij/onder de resolutielimiet van de 193nm lithografiehulpmiddelen). Het belangrijkste doel van de fabricage van dergelijke geavanceerde apparaten is om op silicium de ontworpen geometrie te behouden die de functionaliteit van het apparaat bepaalt. Om te ontdekken hoe Calibre ILT-oplossingen en goede Sub Resolution Assist Features (SRAF) helpen bij het printen en het aanpakken van de Silicon Photonics OPC- en SRAF-uitdagingen, lees het technische document Geavanceerde ILT-oplossingen voor de productie van fotonica-ontwerpen.