Maskerprocescorrectie (MPC) voor kromlijnige ontwerpen
Calibre NmLMPC voert Mask Process Correction (MPC) uit voor invoerlay-outs met kromlijnige polygonen, zoals die geproduceerd door Inverse Lithography Technology (ILT) OPC, en fotonische structuren van silicium.
Innovatieve fragmentatie op basis van krommingen
De op kromming gebaseerde fragmentatie in de Calibre nMcLMPC-engine bepaalt de lengte van het randfragment op basis van de lokale kromming en levert een output die haalbaar is voor kromlijnige MPC-correctie. Deze functie probeert de bestandsgrootte, nauwkeurigheid en uitvoeringstijd samen te optimaliseren voor correctie van het kromlijnige maskerproces.
Optie om snelle convergentie te bereiken
Calibre NmLMPC kan worden gebruikt met voorvoorspanning op basis van kromming om snelle convergentie mogelijk te maken voor kromlijnige MPC. De op kromming gebaseerde pre-bias-methode vermindert het aantal benodigde iteraties zonder dat dit ten koste gaat van de correctienauwkeurigheid en bespaart de looptijd.
Mogelijkheid tot gelijktijdige correctie
Calibre NmLMPC kan kromlijnige en rechthoekige vormen in één keer corrigeren door dezelfde regels toe te passen als in een standaardrecept voor de rechthoekige vormen.
Klaar om meer te weten te komen over Calibre?
We staan klaar om uw vragen te beantwoorden! Neem vandaag nog contact op met ons team
Oproep: 1-800-547-3000
Adviesdiensten van Calibre
Wij helpen u bij het adopteren, implementeren, aanpassen en optimaliseren van uw complexe ontwerpomgevingen. Dankzij directe toegang tot engineering en productontwikkeling kunnen we gebruikmaken van diepgaande domein- en vakexpertise.
Ondersteuningscentrum
Het Siemens Support Center biedt u alles op één eenvoudig te gebruiken locatie -
kennisbank, productupdates, documentatie, ondersteuningscases, licentie-/bestelinformatie en meer.
Calibre IC ontwerp en productie
De Calibre-toolsuite biedt nauwkeurige, efficiënte en uitgebreide IC-verificatie en -optimalisatie voor alle procesknooppunten en ontwerpstijlen, terwijl het gebruik van hulpbronnen en tapeout-schema's tot een minimum wordt beperkt.