Calibre Curvilinear MDP

De vereisten voor het modelleren van lithografische processen van de volgende generatie en de noodzaak om de productiekosten laag te houden, hebben lithografen ertoe aangezet de voordelen van de kromlijnige maskers te onderzoeken. Meerdere onderzoeken, ondersteund door de experimentele resultaten, hebben het lithografische voordeel aangetoond van kromlijnige fotomaskers ten opzichte van rechtlijnige benaderingen. De maakbaarheid van kromlijnige maskers is beperkt vanwege de architectuur van de variabel gevormde balkschrijvers, waardoor dit onmogelijk was vanuit het oogpunt van zowel de voorbereiding van de maskergegevens als het schrijven van maskers. De beschikbaarheid van printers voor maskers met meerdere stralen heeft deze obstakels weggenomen en de introductie van kromlijnige maskers veel dichter bij de realiteit gebracht.

Lezen Buigt vooruit! IC-productie bereidt zich voor op kromlijnige maskers om meer te weten te komen over de voordelen van kromlijnige maskers.

De Calibre Curvilinear MDP-toolsuite maakt een naadloze voortzetting mogelijk van de datamanipulaties die nodig zijn voor Resolution Enhancement Techniques (RET), zoals het invoegen van subresolutieondersteunende functies (SRAF's) en optische procescorrectie (OPC), en Mask Process Correction (MPC) naar de conversie van maskergegevens in één batch.

Van oudsher ondersteunden maskerschrijvers met meerdere bundels Piecewise-Lineaire (PWL) gegevens in hun datapaden. Onlangs hebben leveranciers van multibeam-maskerschrijvers ingebouwde multigon-ondersteuning geïntroduceerd voor de nieuwe generatie multibeam-tools voor het schrijven van maskers. Het doel van multigoon is om kromlijnige gegevens weer te geven met een eigen curveformaat voor het comprimeren van de bestandsgrootte in de maskerstromen. Het aantal hoekpunten dat wordt gebruikt om de multigoongegevens weer te geven, is aanzienlijk kleiner dan het aantal hoekpunten dat wordt gebruikt om de stuksgewijze lineaire gegevens weer te geven, wat resulteert in een verkleining van de bestandsgrootte door het gebruik van oorspronkelijke curven voor kromlijnige gegevens.

De afbeelding hieronder toont een voorbeeld van PWL aan de linkerkant en multigoon aan de rechterkant.

De Calibre Curvilinear MDP-oplossing ondersteunt breukstromen met meerdere bundels op basis van multigon en is geschikt voor de nieuwste multibeam-formaten, zoals MBW 3.0 van IMS en MBF 2.1 van NuFlare.

• Afstandscontrole met meerdere gonen: De afstandscontrole met meerdere gonen is ontworpen om de afstand tussen spline-secties op lagen met meerdere gonen te meten, zodat wordt gegarandeerd dat aan de ontwerpbeperkingen wordt voldaan.
• Controles voor de diepte, breedte en diepte van de breedte van meerdere gonen: De controle van de diepte en breedte zorgt ervoor dat de minimale breedte van een multigoonvorm binnen het acceptabele bereik ligt, met name wanneer deze wordt gemeten bij een bepaald dieptebereik.
• Angle Check met meerdere gonen: De Angle Check evalueert de geometrie van de multigoon door de spline-hoek op elk interessant punt (POI) voor een bepaalde radius te berekenen.
• Multigon Curvature Check: De Curvature Check is ontworpen om de gladheid en buigkwaliteit van elk Bezier-spline-gedeelte binnen een multigoon te beoordelen door de minimale krommingsradius langs de contour te berekenen.

De afbeelding hierboven toont voorbeelden van externe afstandscontroles (linksboven), interne afstandscontrole (rechtsboven), piekdetectie (linksonder) en diepte-breedtecontrole (rechtsonder).