Calibre IC Manufacturing Oplossingen

Een complete totaaloplossing met alle curvilineaire gegevensvoorbereidingsstappen, van retargeting tot SRAF, OPC, MPC en MDP, die tegemoetkomt aan de behoeften van speciale toepassingen (SiPH) en geheugenontwerpen op het gebied van het genereren van kromlijnige maskers.

Technologische ondersteuning voor fotolithografieprocessen, waaronder extreem ultraviolet (EUV). Calibre computationele lithografietools bieden verbeterde nauwkeurigheid, snelheid en lagere gebruikskosten.

Maakt conversie van maskergegevensindelingen en verificatietaken mogelijk voor de fabricage van maskers, inclusief de nieuwste maskerformaten met meerdere stralen in een volledig compatibel Calibre-platform.

Biedt optimalisaties voor e-beam maskerschrijvers. Nieuwe correctie- en modelleermogelijkheden verbeteren de lineariteit en uniformiteit van de kritieke dimensies van het masker voor geavanceerde knooppunten.

Voldoet aan de uitdagingen op het gebied van productiedoorvoer en systeemgebruiksbeheer en zorgt tegelijkertijd voor snelle doorlooptijden ondanks de steeds toenemende complexiteit en gegevensvolumes.

Verbetert de productopbrengst en zorgt voor een snellere groei door enorme hoeveelheden gegevens te structureren en te analyseren, voorspellende machine learning-modellen te creëren en bruikbare analyses te genereren.

Calibre biedt een complete flow-infrastructuuroplossing die superieure runtime en consistentie biedt om te voldoen aan de productievereisten van geheugenapparaten en producten met sterk repetitieve arrays.

De Calibre DFM-toolsuite bevat tools voor rendementsanalyse, printbaarheid en prestatievalidatie om de opbrengst te verbeteren en IC-ontwerpen te optimaliseren.