Calibre EUV

EUV, arba Extreme Ultraviolet, litografija yra technologija, kuri naudoja labai mažą šviesos bangos ilgį (13.5nm) atspausdinti vaizdus ant silicio plokštelių. Tai reikalinga, nes mažas EUV bangos ilgis, būdamas mažesnis už funkcijos dydį, daro spausdinimą daug lengvesnį ir yra būtinas norint pasiekti modelio skiriamąją gebą pažangių gamybos technologijų mazgams, tokiems kaip 5 nm, 3 nm ir už jo ribų.

Calibre modeliuoja visus unikalius EUV optinius efektus, tokius kaip žybsnis, kuris apima tiek trumpojo nuotolio, tiek tolimojo nuotolio efektus. Calibre palaiko dinaminio modelio generavimą domeno skilimo metodui, kad būtų galima nuolat modeliuoti azimutinį kampą, aberacijas, apodizaciją ir šaltinio kitimą plyšyje neprarandant tikslumo. 3D kaukės efektai, tokie kaip storo kaukės absorberio sukeltas šešėliavimo efektas ir ne ašies apšvietimas, kuris skiriasi plyšyje, gali būti tiksliai kompensuojami. “Calibre” taip pat modeliuoja juodos sienos efektą, kad pašalintų jo vaizdo poveikį per OPC. Kalibras taip pat paruoštas “High NA EUV”. Calibre aprūpintas naujomis funkcijomis ir funkcijomis, skirtomis palaikyti anamorfinę optiką nuo modeliavimo per OPC.

EUV litografijoje SRAF greičiausiai yra reikalavimas 5 nm ir žemesniam mazgui. SRAF daro teigiamą poveikį vaizdo žurnalo nuolydžiui (ILS), taip sumažinant linijos krašto šiurkštumą (LER) ir padidinant fokusavimo gylį (DOF). Dėl EUV neašies apšvietimo ir skirtingo šešėliavimo efektų per padalijimą gali prireikti asimetrinių SRAF tiek horizontalioje, tiek vertikalioje kryptyse, o skirtingose plyšių vietose gali prireikti skirtingų SRAF.

“Calibre” SRAF sprendimas gali naudoti EUV modelius SRAF patalpinimui. Calibre pxOPC gali generuoti asimetrinius SRAF ir gali būti koreguojamas pagal tikslinį DOF, ILS arba tikslų mišinį. Calibre nmSRAF gali generuoti taisyklėmis pagrįstus SRAF naudojant PxOPC rezultatus kaip šabloną ir gali dėti SRAF asimetriškai. Calibre NMCLsRAF suteikia lankstumą laisvos formos SRAF figūroms iš Inverse Lithography variklio. Jis nuosekliai taiko šablonus, atlieka MRC konfliktų valymą ir gali generuoti kreivinius SRAF ant EUV kaukių.

Aukštos NA (Skaitmeninė diafragma) EUV yra EUV litografijos evoliucija (nuo šiandienos 0,33 NA iki >= 0,5 NA), kuri reikalinga norint pasiekti modelio skiriamąją gebą pažangių technologijų mazgui. “Calibre” jau paruoštas “High NA EUV”. “Calibre” modeliavimo ir kaukių sintezės produktai jau palaiko anamorfinę optiką nuo modeliavimo per OPC ir iki MPC/MDP. Calibre EUV OPC su kelių raštų yra gamybos įrodyta ir Calibre Source Mask Optimization (SMO) taip pat apima pažangias funkcijas aukštos nA EUV.

“Calibre” siūlo išsamų dizainą per gamybos srautą EUV programoms. “Calibre” EUV sprendimai sprendžia iššūkius, pateikdami:

Visiškas EUV modeliavimo palaikymas - “Calibre” modeliavimo technologija visiškai palaiko visus EUV efektus, įskaitant blyksnius, juodos sienos efektą ir 3D kaukės efektus.

Išsamus produktų rinkinys - Visi modeliuoti efektai yra apskaitomi Calibre gaminiuose, tokiuose kaip Calibre PxSMO, Calibre pxOPC, Calibre nmOPC, Calibre nmSRAF ir Calibre OPCverify OpcVerify, kurie šiandien naudojami tapeout.

Hierarchinis duomenų apdorojimas - Calibre EUV srautas yra suprojektuotas pagal pagrindinę hierarchiją, tuo pačiu naudojant pilnus pasaulinius EUV modelius, leidžiančius greitą ir tikslų OPC srautą.

Kreivinis duomenų apdorojimas - “Calibre Curvilinear” duomenų paruošimo sprendimai gali būti įgalinti visame EUV kaukės juostos sraute.

Pasinaudokite AI kito mazgo tikslumui - “Calibre EUV” apima pažangius mašininio mokymosi metodus, skirtus pagreitinti kaukių sintezę, siūlančius reikšmingus veikimo laiko patobulinimus išlaikant litografijos kokybę.