Produktas
all
Calibre EUV
Išsami parama sprendžiant unikalius aukštos NNR EUV iššūkius, tokius kaip anamorfinė optika ir kaukių 3D modeliavimas, siekiant atsižvelgti į šešėliavimo efektus.
Calibre Computational Lithography
Nepasotinamas integrinių grandynų (IC) poreikis ir toliau skatina mažesnius kritinius matmenis. Fotolitografijos procesai, įskaitant ekstremalius ultravioletinius spindulius (EUV), kelia vis daugiau sudėtingumo ir duomenų apimties. Mūsų skaičiuojamosios litografijos sprendimai leidžia ekonomiškai efektyvią technologiją.
Calibre Computational Lithography Produktai
Tiek litografiniai iššūkiai, tiek skaičiavimo sudėtingumas, susijęs su pažangiais proceso mazgais, sukuria pažangių skaičiavimo litografijos programinės ir techninės įrangos galimybių poreikį. “Calibre” sprendimas siūlo geriausią savo klasėje tikslumą, greitį ir nuosavybės kainą.
Produktas
all
Calibre nmOPC
Tankus optinis artumas ir proceso korekcija, kad būtų galima gaminti gilius submikronus.
Produktas
all
Calibre nmSRAF
Į dizainą įterpiamos papildomos skiriamosios gebos pagalbinės funkcijos (SRAF).
Produktas
all
Calibre OPCverify
Galingas viso lusto modeliavimas ir litografinė analizė.
Produktas
all
Calibre WORKbench
GUI naudojamas įvairiausioms programoms paleisti ir rezultatams peržiūrėti.
Produktas
all
“NMModelFlow” kalibras
Labai keičiamas kalibravimo variklis optiniams, resistiniams ir etch modeliams.
Produktas
all
Calibre pxOPC
Greita, atvirkštinė pikselių optinė artumo korekcija.
Produktas
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Lengva naudoti GUI apšvietimo šaltinio optimizavimui.