Calibre IC Manufacturing Sprendiniai

škas sprendimas nuo galo iki galo, apimantis visus kreivinių duomenų paruošimo etapus nuo pakartotinio nukreipimo iki SRAF, OPC, MPC ir MDP, kuris sprendžia specialiųjų programų (SiPH) ir atminties dizaino kreivinių kaukių generavimo poreikius.

Technologijos įgalinimas fotolitografijos procesams, įskaitant ekstremalius ultravioletinius spindulius (EUV). Calibre skaičiavimo litografijos įrankiai siūlo geresnį tikslumą, greitį ir mažesnes nuosavybės išlaidas.

Įgalina kaukių duomenų formato konvertavimo ir tikrinimo užduotis kaukių gamybai, įskaitant naujausius kelių spindulių kaukių formatus visiškai suderinamoje “Calibre” platformoje.

Teikia optimizavimą el. spindulių kaukių rašytojams. Naujos korekcijos ir modeliavimo galimybės pagerina kaukės kritinės dimensijos tiesiškumą ir vienodumą pažangiems mazgams.

Atitinka gamybos pralaidumo ir sistemos panaudojimo valdymo iššūkius, tuo pačiu pasiekdamas greitą apyvartos laiką, nepaisant vis didėjančio sudėtingumo ir duomenų apimties.

Pagerina produkto derlingumą ir užtikrina greitesnę rampą struktūrizuojant ir analizuojant didžiulius duomenų kiekius, kuriant prognozuojamus mašininio mokymosi modelius ir generuojant veiksmingą analizę.

“Calibre” siūlo pilną srauto infrastruktūros sprendimą, užtikrinantį puikią veikimo laiką ir nuoseklumą, kad atitiktų atminties įrenginių ir produktų, turinčių labai pasikartojančius masyvus, gamybos reikalavimus.

“Calibre DFM” įrankių rinkinį sudaro derlingumo analizės, spausdinimo ir našumo patvirtinimo įrankiai, skirti padidinti derlių ir optimizuoti IC dizainą.