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기술 문서

커브리니어 마스크 셰이프용 MRC

웨이퍼 리소그래피 성능을 개선하는 방법으로 광학 근접 보정 (OPC) 에서 순수한 직사각형 모양 대신 곡선형 마스크 모양을 생성하는 것이 점점 현실화되고 있어요.곡선형 모양을 사용할 때의 주요 이점은 공정 창이 개선된다는 거예요. 즉, 웨이퍼 이미지가 노출 중 선량과 초점 조건에 덜 민감하다는 뜻이에요.최신 고성능 클러스터의 향상된 컴퓨팅 파워와 멀티빔 마스크 라이터 (MBMW) 의 가용성으로 현재 개발 중인 기술 노드에서 웨이퍼 리소그래피의 이점을 실현할 수 있어요.

곡선형 모양의 마스크를 생산할 때 가장 현실적인 문제는 신뢰할 수 있는 마스크 규칙 검사 (MRC) 가 가능하다는 점이에요.OPC 엔진은 제조 가능한 모양을 생성해야 할 뿐만 아니라 마스크 공장에서도 들어오는 마스크 데이터가 제조 가능한지 확인하는 방법도 필요해요.곡선형 마스크 모양의 경우 단순한 너비와 공간 검사로는 더 이상 충분하지 않기 때문에 직사각형 마스크 모양보다 더 어려워요.

이 백서에서는 포괄적인 MRC 한계에 대해 논의하고 곡선형 입력 데이터에 대해 작동하는 MRC 엔진의 효과를 보여줘요.여기서 사용되는 규칙에는 노출된 피처의 최소 너비, 노출된 피처 사이의 최소 공간, 볼록하고 오목한 모양의 최소 곡률, 노출된 피처의 최소 면적이 포함돼요.

파란색과 오렌지색 기하학적 모양의 흰색 종이 시트 더미예요
주요 기능

마스크 검증용 풀칩 곡선형 MRC 제품군

칼리버에는 마스크 제작 전에 곡률, 너비, 공간, 면적 등에 대한 마스크 규칙을 포함하여 전체 곡선형 마스크 레이아웃의 제조 가능성을 확인하는 포괄적인 검사 세트가 포함되어 있어 고급 마스크용으로 생성된 복잡한 비직사각형 모양이 제조 가능한지 확인합니다.

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Calibre Curvilinear Verication에 대해 자세히 알아보려면 추천 리소스를 살펴보세요.

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