主な特長
曲線デザインのマスクプロセス補正(MPC)
Calibre nmCLMPC は、シリコンフォトニック構造だけでなく、逆リソグラフィ技術(ILT)OPCで作成されたような曲線のポリゴンを含む入力レイアウトのマスクプロセス補正(MPC)を実行します。
データサイズ、精度、実行時間
革新的な曲率ベースのフラグメンテーション
Calibre nmCLMPC エンジンの曲率ベースのフラグメンテーションは、局所的な曲率に基づいてエッジフラグメントの長さを決定し、曲線のMPC補正に適した出力を提供します。この機能は、曲線マスク処理補正のファイルサイズ、精度、実行時間を同時に最適化しようとします。

実行時間の短縮と精度
高速コンバージェンスを実現するオプション
Calibre nmCLMPC は曲率ベースのプリバイアス処理と併用すると、曲線型MPCの高速収束が可能になります。曲率ベースのプリバイアス法は、補正精度を低下させることなく必要な反復回数を減らし、実行時間を節約します。

ユーザビリティ
同時修正機能
Calibre nmCLMPC は、標準レシピと同じルールを長方形に適用して、曲線形状と長方形形状を一度に修正できます。

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