製造要件を満たしています
高度な基板技術には、複雑な金属充填領域が必要です。ガス放出ボイド挿入、メタルバランシング、ボール/バンプサーマルタイに関するガイドラインがあります。信号ルーティング、ルートチューニング、オールメタルエリアフィルの作成/編集操作間の相互運用性が必須になります。
技術概要
テープアウト結果で動的に実行します
ルーティング、チューニング、エリアフィル操作の相互運用性により、半導体パッケージの品質を実現します。自動的かつインタラクティブな段階的デガス処理とメタルバランシングにより、レイヤーペアのバランスを指定の閾値に合わせることができます。マルチスレッドのダイナミックプレーンエンジンを使用すると、OASISまたはGDSIIマスクセットを作成する前に後処理を行う必要がなく、いつでも結果をテープアウトできます。

