Nell'ultimo decennio, la tecnologia fotonica è stata una tecnologia emergente per le telecomunicazioni ottiche e le interconnessioni ottiche nella microelettronica. Di conseguenza, un'ampia varietà di metodologie di progettazione fotonica si è fusa con scale e forme molto impegnative. La produzione di forme fotoniche così curve e critiche richiede tecniche avanzate di miglioramento della risoluzione (RET), comprese le tecniche di litografia inversa (ILT) con litografia a immersione a 193 nm. In questo documento, esaminiamo le sfide di produzione di diversi dispositivi fotonici utilizzando soluzioni ILT avanzate e l'impatto dell'inserimento SRAF sulla fornitura di una buona qualità litografica, inclusi l'errore di posizionamento dei bordi (EPE), la banda PVe e la rugosità del bordo lineare (LER). Dimostreremo come le nostre soluzioni Calibre ILT consentano la produzione dei progetti fotonici più impegnativi.
