Panoramica
Calibre NMClopc
I requisiti di modellazione dei processi litografici di nuova generazione hanno spinto i litografi a esplorare i vantaggi delle maschere curvilinee. Il motore OPC Calibre è stato esteso per generare modelli curvilinei e supportare un flusso OPC curvilineo veloce a chip completo.
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Motore OPC curvilineo
Il motore OPC curvilineo Calibre può convertire forme rettangolari in motivi curvilinei e garantire il raggiungimento dell'obiettivo EPE. Esegue controlli di stampa SRAF per forme curve e applica contemporaneamente i vincoli MRC per garantire una generazione di maschere curvilinee di alta qualità.
Soluzione OPC curvilinea veloce a chip completo
Il calibro NmClOpc consente il flusso OPC curvilineo ibrido ILT che offre la qualità litografica richiesta con un'autonomia più rapida rispetto a una soluzione ILT completa. Questo flusso può essere utilizzato per generare maschere curvilinee necessarie per la fotonica al silicio o per i progetti rettilinei per la logica o la memoria.
Rappresentazione poligonale curvilinea nativa
A differenza dei tradizionali motori OPC che si basano sul movimento dei bordi di Manhattan, Calibre NMClOpc applica la rappresentazione nativa dei poligoni curvilinei con le spline di Bezier ed esegue la correzione basata sulle spline spostando una «curva OPC». Questo nuovo formato non solo favorisce il miglioramento della precisione, ma mitiga anche l'esplosione delle dimensioni dei dati introdotta dalle maschere curvilinee.
Soluzioni avanzate di modellazione OPC per maschere curvilinee
Il modello base Calibre OPC può modellare con precisione gli effetti del campo elettromagnetico 3D della maschera per maschere curvilinee. L'uso dei contorni SEM per la calibrazione del modello in base a modelli curvilinei consente di descrivere il comportamento reale sul wafer. L'avanzata tecnologia Calibre NMcLoPC massimizza i diritti per la litografia e raggiunge la precisione OPC richiesta.
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Servizi di consulenza Calibre
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