Correzione del processo con maschera (MPC) per disegni curvilinei
Il calibro NMClMPC esegue la correzione del processo di maschera (MPC) per layout di input con poligoni curvilinei, come quelli prodotti da Inverse Lithography Technology (ILT) OPC, nonché strutture fotoniche in silicio.
Frammentazione innovativa basata sulla curvatura
La frammentazione basata sulla curvatura nel motore Calibre nMClMPC determina la lunghezza del frammento del bordo in base alla curvatura locale e fornisce un risultato possibile per la correzione MPC curvilinea. Questa funzione tenta di coottimizzare le dimensioni, la precisione e il tempo di esecuzione del file per la correzione del processo con maschera curvilinea.
Opzione per raggiungere una rapida convergenza
Il calibro nMClMPC può essere utilizzato con la prepolarizzazione basata sulla curvatura per consentire una rapida convergenza per l'MPC curvilineo. Il metodo pre-bias basato sulla curvatura riduce il numero di iterazioni necessarie senza compromettere la precisione della correzione e consente di risparmiare tempo di esecuzione.
Capacità di correzione simultanea
Il calibro NmClMPC può correggere forme curvilinee e rettangolari in una sola corsa applicando le stesse regole di una ricetta standard alle forme rettangolari.
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