Perché Calibre NMCLBias?
Man mano che la litografia avanzata va oltre le tradizionali geometrie di Manhattan, le realtà delle maschere e dei wafer non corrispondono più agli intenti progettuali rettilinei idealizzati. Con angoli arrotondati, la crescente complessità dei modelli e l'aumento dei flussi di maschere curvilinei resi possibili dagli scrittori di maschere multiraggio, Calibre NMCLBias aiuta a sostenere il passaggio del settore verso una rappresentazione dei modelli più accurata e producibile per i processi di nuova generazione.
