Skip to main content
Ova se stranica prikazuje pomoću automatiziranog prijevoda. Umjesto toga, pogledaj na engleskom?

Calibre Mask Process Correction

Obitelj proizvoda koji se temelje na pravilima i modelima Calibre Mask Process Correction koristi se u naprednoj proizvodnji fotomaski za ispravljanje sustavne litografije maske i izvora pogrešaka u procesu kako bi se osiguralo da je potpis kritične dimenzije maske unutar specifikacija.

Stupite u kontakt s našim tehničkim timom 1-800-547-3000

Konture Calibre Mask Process Correction u analiziranom dizajnu.
Videozapis

Calibre NMMPC Uvod

Saznajte kako Calibre NMMPC nastavlja biti vodeća, uspostavljajući novo mjerilo točnosti i pouzdanosti. Ovaj sinergistički pristup modeliranju maski postavlja novi standard u industriji maski i za modele maski i za MPC točnost.

tehnički rad

Validacija za litografiju maski s više zraka

Korekcija procesa maski (MPC) dobro je uspostavljena kao nužan korak u pripremi podataka o maskama (MDP) za proizvodnju maski elektronskog snopa na čvorovima napredne tehnologije od 14nm i dalje. MPC obično koristi model raspršivanja elektrona za predstavljanje izloženosti e-snopu i procesni model za predstavljanje učinaka procesa razvoja i jetkanja. Modeli se koriste za iterativnu simulaciju položaja rubova značajki izgleda i pomicanje rubnih segmenata kako bi se povećala točnost položaja ruba dovršene maske. Selektivno dodjeljivanje doze može se koristiti zajedno s pomicanjem ruba kako bi se istovremeno povećala točnost prozora procesa i položaja ruba.

MPC metodologija za kalibraciju modela i korekciju izgleda razvijena je i optimizirana za pisce maski u obliku vektorskog snopa (VSB) koji predstavljaju dominantnu tehnologiju litografije maski koja se danas koristi za naprednu proizvodnju maski. Pisači maski s više zraka (MBMW) nedavno su predstavljeni i sada se počinju koristiti u proizvodnji volumnih fotomaski.

Ovi novi alati temelje se na masivno paralelnim arhitekturama rasterskog skeniranja koje značajno smanjuju ovisnost vremena pisanja o složenosti izgleda i očekuje se da će povećati i na kraju zamijeniti VSB tehnologiju za napredne maske čvorova kako složenost izgleda nastavlja rasti [5] [6].

Iako se očekuje da se postojeće MPC metode razvijene za VSB litografiju mogu lako prilagoditi MBMW, potrebno je rigorozno ispitivanje korekcije pogrešaka maske za MBMW kako bi se u potpunosti potvrdila primjenjivost trenutnih alata i metoda i identificirale sve modifikacije koje mogu biti potrebne za postizanje željene performanse CD-a MBMW. U ovom radu predstavit ćemo rezultate takve studije i potvrditi spremnost MPC-a za litografiju maski s više zraka.

A person is holding a book and appears to be reading it while sitting on a chair.

Proizvodi za Calibre Mask Process Correction

Pravilo Calibre Mask Process Correction i proizvodi zasnovani na modelu pružaju najbolju skalabilnost i točnost u klasi za ispravljanje izvora pogrešaka od nanometra do raspona centimetara za efekte raspršivanja elektrona i opterećenja procesa. Napredni alati za modeliranje omogućuju kalibraciju modela na točnost <1 nm.