Iskoristite više platformi dizajna do proizvodnje
Rješenja Calibre Defect Management izvode grupiranje kvarova temeljeno na podudaranju uzoraka i koriste DRC/LVS za atribute dizajna temeljene na lokaciji defekata i analizu neto kritičnosti. Besprijekorna integracija s dizajnerskim alatima olakšava izravnu vezu između fizičkog dizajna i pregleda nedostataka.
Križna sonda za analizu dizajna
Calibre Defect Management GUI integrira različite funkcije analize dizajna Calibre i pruža različite značajke analize vođene dizajnom zasnovane na greškama kako bi korisnici mogli lako identificirati i popraviti osnovni uzrok nedostataka.
Donji odabir od inspekcije BFI do SEM analize
Calibre Defect Management pruža aplikacije za smanjenje uzorkovanja integriranjem s Calibre SONR tehnikama, metodologijom rangiranja i predviđanja zasnovanom na strojnom učenju, kako bi se poboljšala stopa pogodnosti defekata i istaknula sustavne obrasce s ograničenim proračunom uzorkovanja za pregled SEM-a.
Analiza defekata zasnovana na SEM slici
Mogućnost obrade slike Calibre Default Management SEM omogućuje precizno sidrenje između mjesta oštećenja na maski/ploči i mjesta oštećenja na rasporedu. Tehnike kao što su poravnanje SEM-a prema rasporedu, ekstrakcija kontura i automatska klasifikacija kvarova temeljena na SEM-u koriste se kako bi se osigurala točna analiza kvarova.
Jeste li spremni saznati više o Calibru?
Stojimo spremni da odgovorimo na vaša pitanja! Kontaktirajte naš tim već danas
Pozovite: 1-800-547-3000
Calibre konzultantske usluge
Pomažemo vam usvojiti, implementirati, prilagoditi i optimizirati vaša složena dizajnerska okruženja. Izravni pristup inženjeringu i razvoju proizvoda omogućuje nam da iskoristimo duboku stručnost u domenu i temama.
Centar za podršku
Siemens centar za podršku pruža vam sve na jednom mjestu jednostavnom za korištenje -
baza znanja, ažuriranja proizvoda, dokumentacija, slučajevi podrške, informacije o licenci/narudžbi i još mnogo toga.
Kalibar IC dizajn i proizvodnja
Paket alata Calibre pruža preciznu, učinkovitu, sveobuhvatnu provjeru i optimizaciju IC-a u svim procesnim čvorovima i stilovima dizajna uz minimiziranje korištenja resursa i rasporeda snimanja.