U posljednjem desetljeću fotonska tehnologija je nova tehnologija za optičke telekomunikacije i optičke međusobne veze u mikroelektronici. Kao rezultat toga, velika raznolikost metodologija dizajna fotonike spojila se s vrlo izazovnim skalama i oblicima. Izrada takvih zakrivljenih i kritičnih fotonskih oblika zahtijeva napredne tehnike poboljšanja rezolucije (RET), uključujući tehnike inverzne litografije (ILT) sa 193 nm uranjajućom litografijom. U ovom radu istražujemo proizvodne izazove nekoliko fotonskih uređaja koristeći napredna ILT rješenja i utjecaj umetanja SRAF -a na pružanje dobre kvalitete lita, uključujući pogrešku postavljanja rubova (EPE), PVband i hrapavost rubova linije (LER). Pokazat ćemo kako naša Calibre ILT rješenja omogućuju proizvodnju najizazovnijih fotonskih dizajna.
