Generiranje krivolinijskih oblika maski u optičkoj korekciji blizine (OPC) umjesto čistih pravokutnih oblika postaje sve realnije kao metoda za poboljšanje performansi litografije vafla. Glavna prednost korištenja krivolinijskih oblika je poboljšani prozor procesa, što znači da je slika vafla manje osjetljiva na uvjete doze i fokusa tijekom ekspozicije. Uz povećanu računsku snagu najnovijih klastera visokih performansi i dostupnost pisača maski s više zraka (MBMW), te prednosti litografije vafla mogu se ostvariti na tehnološkim čvorovima koji se trenutno razvijaju.
Vrlo praktičan izazov za stavljanje maski s krivuljnim oblicima u proizvodnju je dostupnost pouzdanih provjera pravila maski (MRC). OPC motor ne samo da treba generirati oblike koji se mogu proizvesti, već je prodavaonici maski potrebna i metoda provjere jesu li dolazni podaci o maskama izradljivi. Za krivolinijske oblike maski ovo je izazovnije nego za pravokutne oblike maski jer jednostavne provjere širine i prostora više nisu dovoljne.
U ovom radu raspravljamo o sveobuhvatnom skupu granica MRC i demonstriramo učinkovitost MRC motora koji radi na krivuljnim ulaznim podacima. Rules koja se ovdje koriste uključuju minimalnu širinu izloženih obilježja, minimalni prostor između izloženih obilježja, minimalnu zakrivljenost konveksnih i konkavnih oblika, kao i minimalnu površinu izloženih obilježja.
