Pisači maski s više zraka (MBMW) omogućuju upotrebu idealnih krivulinijskih oblika za maske inverzne litografije (ILT), ali trenutni formati izgleda nisu dovoljni za učinkovito predstavljanje složenih ILT dizajna od optičke korekcije blizine (OPC) do izrade maski. U 2019. pokrenuli smo radnu grupu za format podataka kako bismo riješili potrebu za krivuljnom reprezentacijom podataka za MBMW. Radna skupina Curvilinear Data Format ima članove iz EDA kompanija i naprednih proizvođača maski. U ovom radu bit će predstavljena potreba novog krivolinijskog formata podataka i ciljevi naše radne skupine. Razgovarat ćemo o napretku i planu radne skupine. Verzija ovog rada predstavljena je na IEEE SPIE konferenciji 2021. godine i objavljena u zborniku konferencije.



