Ces dix dernières années, la technologie photonique est devenue une technologie émergente pour les télécommunications optiques et les interconnexions optiques en microélectronique. En conséquence, une grande diversité de méthodologies de conception photonique a été fusionnée avec des échelles et des formes très complexes. La fabrication de formes photoniques aussi courbes et critiques nécessite des techniques avancées d'amélioration de la résolution (RET), notamment des techniques de lithographie inverse (ILT) avec lithographie par immersion à 193 nm. Dans cet article, nous étudions les défis de fabrication de plusieurs dispositifs photoniques utilisant des solutions ILT avancées et l'impact de l'insertion du SRAF sur la qualité de la litho, notamment l'erreur de placement des bords (EPE), la bande PV et la rugosité des bords de ligne (LER). Nous montrerons comment nos solutions Calibre ILT permettent de fabriquer les conceptions photoniques les plus complexes.
