Correction du processus de masque (MPC) pour les dessins curvilinéaires
Le Calibre NMcLMPC effectue une correction du processus de masque (MPC) pour les mises en page d'entrée comportant des polygones curvilignes, tels que ceux produits par l'OPC de la technologie de lithographie inverse (ILT), ainsi que des structures photoniques au silicium.
Fragmentation innovante basée sur la courbure
La fragmentation basée sur la courbure du moteur Calibre NMcLMPC détermine la longueur des fragments d'arêtes en fonction de la courbure locale et fournit un résultat réalisable pour la correction curvilinéaire du MPC. Cette fonctionnalité tente de co-optimiser la taille des fichiers, la précision et le temps d'exécution pour la correction du processus de masque curvilinéaire.
Option permettant de parvenir à une convergence rapide
Le calibre NMcLMPC peut être utilisé avec un pré-biais basé sur la courbure afin de permettre une convergence rapide pour les MPC curvilinéaires. La méthode de pré-biais basée sur la courbure réduit le nombre d'itérations requises sans dégrader la précision de la correction et permet de gagner en temps d'exécution.
Capacité de correction simultanée
Le Calibre NMcLMPC peut corriger les formes curvilignes et rectangulaires en une seule fois en appliquant les mêmes règles que dans une recette standard pour les formes rectangulaires.
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