Il est de plus en plus réaliste de générer des formes de masques curvilignes dans le cadre de la correction de proximité optique (OPC) au lieu de formes rectangulaires pures afin d'améliorer les performances de lithographie des plaquettes. Le principal avantage de l'utilisation de formes curvilignes est l'amélioration de la fenêtre de traitement, ce qui signifie que l'image de la plaquette est moins sensible aux conditions de dose et de mise au point lors de l'exposition. Grâce à la puissance de calcul accrue des derniers clusters hautes performances et à la disponibilité de graveurs de masques multifaisceaux (MBMW), ces avantages de la lithographie de plaquettes peuvent être réalisés sur les nœuds technologiques en cours de développement.
La mise en production de masques aux formes curvilignes constitue un défi très pratique pour la production de masques : la disponibilité de contrôles fiables des règles relatives aux masques (MRC). Le moteur OPC doit non seulement générer des formes pouvant être fabriquées, mais l'atelier de masques a également besoin d'une méthode permettant de vérifier que les données de masque entrantes sont manufacturables. Pour les masques curvilignes, c'est plus difficile que pour les masques rectangulaires, car de simples vérifications de largeur et d'espacement ne suffisent plus.
Dans cet article, nous abordons un ensemble complet de limites MRC et démontrons l'efficacité d'un moteur MRC fonctionnant sur des données d'entrée curvilinéaires. Rules utilisées ici incluent la largeur minimale des éléments exposés, l'espace minimum entre les éléments exposés, la courbure minimale des formes convexes et concaves, ainsi que la surface minimale des éléments exposés.
