Au cours de la dernière décennie, la technologie photonique a été une technologie émergente pour les télécommunications optiques et les interconnexions optiques en microélectronique. En conséquence, une grande diversité de méthodologies de conception photonique a fusionné avec des échelles et des formes très difficiles. La fabrication de telles formes photoniques sinueuses et critiques nécessite des techniques avancées d'amélioration de la résolution (RET), y compris des techniques de lithographie inverse (ILT) avec lithographie par immersion de 193 nm. Dans cet article, nous étudions les défis de fabrication de plusieurs dispositifs photoniques utilisant des solutions ILT avancées et l'impact de l'insertion SRAF sur la fourniture d'une bonne qualité litho, y compris l'erreur de placement des bords (EPE), la bande PVB et la rugosité des bords de ligne (LER). Nous allons démontrer comment nos solutions Calibre ILT permettent la fabrication des conceptions photoniques les plus difficiles.
