Vue d'ensemble
Calibre nmCLOPC
Les exigences de modelage des processus lithographiques de nouvelle génération ont poussé les lithographes à explorer les avantages des masques curvilignes. Le moteur Calibre OPC a été étendu pour générer des motifs curvilignes et prendre en charge un flux OPC curviligne rapide à puce complète.
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Moteur OPC curviligne
Le moteur OPC curviligne Calibre peut convertir des formes rectangulaires en motifs curvilignes et s'assurer que l'objectif EPE est atteint. Il effectue des vérifications d'impression SRAF pour les formes courbes et applique simultanément les contraintes MRC pour assurer la génération de masques curvilignes de haute qualité.
Solution OPC curviligne à puce complète rapide
Calibre nmCLOPC permet le flux OPC curviligne ILT hybride qui fournit la qualité lithographique requise avec un temps d'exécution plus rapide qu'avec une solution ILT complète. Ce flux peut être utilisé pour générer des masques curvilignes nécessaires pour la photonique du silicium, ou pour des conceptions rectilignes pour la logique ou la mémoire.
Représentation de polygones curvilignes natifs
Contrairement aux moteurs OPC traditionnels qui reposent sur le mouvement des bords de Manhattan, Calibre nmCLOPC applique une représentation polygonale curviligne native avec des splines de Bézier et effectue une correction basée sur les splines en déplaçant une « courbe OPC ». Ce nouveau format profite non seulement à l'amélioration de la précision, mais atténue également l'explosion de la taille des données introduite par les masques curvilignes.
Solutions avancées de modélisation OPC pour masques curvilignes
Le modèle central Calibre OPC peut modéliser avec précision les effets de champ électromagnétique 3D du masque pour les masques curvilignes. L'utilisation de contours SEM pour l'étalonnage du modèle aux motifs curvilignes lui permet de décrire le comportement réel sur la plquette. La technologie avancée Calibre nmCLOPC maximise les droits à la lithographie et atteint la précision OPC requise.
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