Vue d'ensemble
Calibre NMclMPC
La correction du processus de masque (MPC) assure la fidélité des motifs de masque de la fabrication avancée de masques de nœuds. Le calibre NMCLMPC fournit la capacité nécessaire pour la correction du processus de masque curviligne afin de répondre aux attentes en matière de précision de correction ainsi que de temps de traitement.
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Correction du processus de masque (MPC) pour les conceptions curvilignes
Le calibre NMCLMPC effectue la correction du processus de masque (MPC) pour les dispositions d'entrée avec des polygones curvilignes, tels que ceux produits par la technologie de lithographie inverse (ILT) OPC, ainsi que les structures photoniques en silicium.
Fragmentation innovante basée sur la courbure
La fragmentation basée sur la courbure dans le moteur Calibre NMCLMPC détermine la longueur du fragment de bord en fonction de la courbure locale et fournit une sortie réalisable pour la correction curviligne MPC. Cette fonctionnalité tente de co-optimiser la taille du fichier, la précision et le temps d'exécution pour la correction du processus de masque curviligne.
Option pour atteindre une convergence rapide
Le calibre NMCLMPC peut être utilisé avec une prépolarisation basée sur la courbure pour permettre une convergence rapide pour les MPC curvilignes. La méthode de prépolarisation basée sur la courbure réduit le nombre d'itérations requises sans dégrader la précision de la correction et économise l'exécution.
Capacité de correction simultanée
Calibre NMclMPC peut corriger les formes curvilignes et rectangulaires en une seule fois en appliquant les mêmes règles que dans une recette standard aux formes rectangulaires.
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Calibre IC Design & Fabrication
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