Générer des formes de masques curvilignes en correction optique de proximité (OPC) au lieu de formes rectangulaires pures devient de plus en plus réaliste en tant que méthode pour améliorer les performances de lithographie de plaquettes. Le principal avantage de l'utilisation de formes curvilignes est une fenêtre de processus améliorée, ce qui signifie que l'image de la plaquette est moins sensible aux conditions de dose et de mise au point pendant l'exposition. Avec l'augmentation de la puissance de calcul des derniers clusters hautes performances et la disponibilité des lecteurs de masques multifaisceaux (MBMW), ces avantages de la lithographie de plaquettes peuvent être réalisés dans les nœuds technologiques en cours de développement.
Un défi très pratique pour mettre des masques aux formes curvilignes en production est la disponibilité de vérifications fiables des règles de masque (MRC). Le moteur OPC doit non seulement générer des formes pouvant être fabriquées, mais l'atelier de masques a également besoin d'une méthode pour vérifier que les données de masque entrantes sont fabricables. Pour les formes de masques curvilignes, c'est plus difficile que pour les formes de masque rectangulaires puisque de simples vérifications de largeur et d'espace ne suffisent plus.
Dans cet article, nous discutons d'un ensemble complet de limites MRC et démontrons l'efficacité d'un moteur MRC fonctionnant sur des données d'entrée curvilignes. Les Rules utilisées ici incluent la largeur minimale des éléments exposés, l'espace minimum entre les éléments exposés, la courbure minimale des formes convexes et concaves, ainsi que la zone minimale des éléments exposés.
