Les lecteurs de masques multifaisceaux (MBMW) permettent l'utilisation de formes curvilignes idéales pour les masques de lithographie inverse (ILT), mais les formats de mise en page actuels ne sont pas suffisants pour représenter efficacement des conceptions ILT complexes, de la correction optique de proximité (OPC) à la fabrication de masques. En 2019, nous avons lancé un groupe de travail sur le format de données pour répondre au besoin de représentation curviligne des données pour MBMW. Le groupe de travail sur le format de données curvilignes est composé de membres de sociétés EDA et de fabricants de masques avancés. Dans cet article, la nécessité d'un nouveau format de données curvilignes et les objectifs de notre groupe de travail seront présentés. Nous discuterons des progrès et du plan du groupe de travail. Une version de cet article a été présentée à la conférence IEEE SPIE en 2021 et publiée dans les actes de la conférence.



