Solutions de Calibre IC Manufacturing

Une solution complète de bout en bout comprenant toutes les étapes de préparation des données curvilignes, du retargeting au SRAF, OPC, MPC et MDP, qui répond aux besoins de génération de masques curvilignes des applications spécialisées (SiPh) et des conceptions de mémoire.

Activitation technologique pour les processus de photolithographie, y compris les ultraviolets extrêmes (EUV). Les outils de lithographie computationnelle de calibre offrent une précision améliorée, une vitesse et un coût de possession réduit.

Active les tâches de conversion et de vérification des formats de données de masque pour la fabrication de masques, y compris les derniers formats de masques multifaisceaux dans une plateforme Calibre entièrement compatible.

Fournit des optimisations pour les rédacteurs de masques à faisceau électronique. De nouvelles capacités de correction et de modélisation améliorent la linéarité et l'uniformité des dimensions critiques du masque pour les nœuds avancés.

Répond aux défis de la gestion du débit de production et de l'utilisation du système tout en obtenant des délais d'exécution rapides malgré la complexité et les volumes de données toujours croissants.

Améliore le rendement des produits et fournit une rampe plus rapide en structurant et en analysant d'énormes quantités de données, en créant des modèles prédictifs d'apprentissage automatique et en générant des analyses exploitables.

Calibre offre une solution complète d'infrastructure de flux offrant une exécution et une cohérence supérieures pour répondre aux exigences de fabrication des dispositifs de mémoire et des produits avec des baies très répétitives.

La suite d'outils Calibre DFM comprend des outils d'analyse de rendement, d'imprimabilité et de validation des performances pour améliorer le rendement et optimiser les conceptions de CI.