Viimase kümnendi jooksul on fotoonikatehnoloogia olnud mikroelektroonika optilise telekommunikatsiooni ja optiliste ühenduste tekkiv tehnoloogia. Selle tulemusena on fotoonika kujundusmetoodikate suur mitmekesisus ühinenud väga keeruliste skaalade ja kujudega. Selliste kõverate ja kriitiliste fotoonikakujude tootmine nõuab täiustatud eraldusvõime suurendamise tehnikaid (RET), sealhulgas pöördlitograafiatehnikaid (ILT) 193 nm sukeldumislitograafiaga. Selles artiklis uurime mitme fotoonikaseadme tootmisprobleeme, kasutades täiustatud ILT-lahendusi, ja SRAF-i sisestamise mõju hea litokvaliteedi tagamisele, sealhulgas serva paigutuse viga (EPE), PVband ja joone serva karedus (LER). Näitame, kuidas meie Calibre ILT lahendused võimaldavad valmistada kõige keerukamaid fotoonikakujundusi.
