Mitme kiire maskide kirjutajad (MBMW) võimaldavad kasutada ideaalseid kõverjoonelisi kujundeid pöördlitograafia (ILT) maskide jaoks, kuid praegused paigutusvormingud ei ole piisavad keerukate ILT-kujunduste tõhusaks esitamiseks alates optilisest läheduse korrigeerimisest (OPC) kuni maskide valmistamiseni. 2019. aastal algatasime andmevormingu töörühma, et tegeleda MBMW kõverjoonelise andmete esitamise vajadusega. Curvilinear Data Forming töörühmas on liikmed EDA ettevõtetest ja arenenud maskitootjatest. Käesolevas artiklis tutvustatakse uue kõverjoonelise andmevormingu vajalikkust ja meie töörühma eesmärke. Arutame töörühma edusamme ja plaani. Selle artikli versioon esitati IEEE SPIE konverentsil 2021. aastal ja avaldati konverentsi toimetustes.



