Calibre EUV

EUV ehk Extreme Ultraviolet litograafia on tehnoloogia, mis kasutab ränivahvlitele piltide printimiseks väga väikest valguse lainepikkust (13,5 nm). Seda on vaja, kuna EUV väike lainepikkus, mis on väiksem kui funktsiooni suurus, muudab printimise palju lihtsamaks ja on hädavajalik mustri eraldusvõime saavutamiseks täiustatud tootmistehnoloogia sõlmede jaoks nagu 5 nm, 3 nm ja kaugemad.

Calibre mudelitel on kõik ainulaadsed EUV optilised efektid, näiteks sära, mis hõlmab nii lühi- kui ka pikamaale efekte. Calibre toetab domeeni lagunemise meetodi dünaamilise mudeli genereerimist, et võimaldada pidevat asimutaalse nurga, aberratsioonide, apodisatsiooni ja allika varieerumise modelleerimist kogu pilus ilma täpsuse kaotamiseta. 3D-maskiefekte, nagu paksu maski neelaja põhjustatud varjuefekt ja teljeväline valgustus, mis varieerub kogu pilus, saab täpselt kompenseerida. Calibre modelleerib ka musta ääriefekti, et kõrvaldada selle pildistamise mõju OPC kaudu. Calibre on ette valmistatud ka High NA EUV jaoks. Calibre on varustatud uute funktsioonide ja funktsioonidega anamorfse optika toetamiseks alates modelleerimisest kuni OPC-ni.

SRAF-id on EUV litograafias tõenäoliselt nõue 5 nm sõlme ja allpool. SRAF-id mõjutavad positiivselt pildilogi kalde (ILS), vähendades seeläbi joone serva karedust (LER) ja suurendades teravustamise sügavust (DOF). EUV teljevälise valgustuse ja lõhestamise kaudu erinevate varjutusefektide tõttu võib vaja minna asümmeetrilisi SRAF-e nii horisontaalses kui ka vertikaalsuunas ning erinevates pilude asukohtades võib vaja minna erinevaid SRAF-e.

Calibre'i SRAF-lahendus saab kasutada EUV mudeleid SRAF-i paigutamiseks. Calibre pxOPC võib genereerida asümmeetrilisi SRAF-e ja neid saab kohandada vastavalt DOF-i, ILS-i või eesmärkide segule. Calibre nmSRAF suudab genereerida reeglipõhiseid SRAF-e, kasutades mallina PxOPC tulemusi ja paigutada SRAF-e asümmeetriliselt. Calibre nmCLSRAF pakub paindlikkust pöördlitograafia mootori vabas vormis SRAF-kujude jaoks. See rakendab järjestikku malle, puhastades MRC-konflikte ja võib EUV maskidele genereerida kõverjoonelisi SRAF-e.

Kõrge NA (numbriline ava) EUV on EUV litograafia areng (tänapäeva 0,33 NA kuni >= 0,5 NA), mis on vajalik arenenud tehnoloogia sõlme mustri eraldusvõime saavutamiseks. Calibre on High NA EUV jaoks juba ette valmistatud. Calibre'i modelleerimise ja maskide sünteesi tooted toetavad juba anamorfset optikat alates modelleerimisest kuni OPC kuni MPC/MDP-ni. Mitme mustriga Calibre EUV OPC on tootmisega tõestatud ja Calibre Source Mask Optimization (SMO) sisaldab ka kõrgtehnoloogilise NA-ga EUV täiustatud funktsioone.

Calibre pakub EUV rakenduste jaoks täielikku disaini läbi tootmisvoo. Calibre EUV lahendused lahendavad väljakutseid, pakkudes järgmist:

EUV täielik modelleerimise tugi - Calibre'i modelleerimistehnoloogia toetab täielikult kõiki EUV efekte, sealhulgas sära, musta ääriefekti ja 3D-maskiefekte.

Põhjalik tootekomplekt - Kõiki modelleeritud efekte kajastatakse Calibre toodetes nagu Calibre PxSMO, Calibre pxOPC, Calibre nmOPC, Calibre nmSRAF ja Calibre OPCverify OpcVerify, mida kasutatakse tänapäeval lindiväljas.

Hierarhiline andmetöötlus - Calibre EUV voog on konstrueeritud põhihierarhia järgi, kasutades samal ajal täielikke globaalseid EUV mudeleid, võimaldades kiiret ja täpset OPC voolu.

Kõverjooneline andmetöötlus - Calibre Curvilinear andmete ettevalmistamise lahendusi saab lubada kogu EUV maski väljavoolu ulatuses.

Kasutage tehisintellekti järgmise sõlme täpsuse saavutamiseks - Calibre EUV sisaldab täiustatud masinõppe tehnikaid maskide sünteesi kiirendamiseks, pakkudes olulisi tööaja täiustusi, säilitades samal ajal litograafia kvaliteedi.