Toode
all
Calibre EUV
Põhjalik tugi kõrge NA-ga EUV ainulaadsete väljakutsetega, nagu anamorfne optika ja maskide 3D-modelleerimine, et võtta arvesse varjutusefekte.
Calibre Computational Lithography
Rahuldamatu nõudlus integraallülituste (IC) järele suurendab jätkuvalt väiksemaid kriitilisi mõõtmeid. Fotoolitograafia protsessid, sealhulgas äärmuslik ultraviolett (EUV), pakuvad üha keerukamat ja andmemahtu. Meie arvutuslitograafia lahendused võimaldavad kulutõhusat tehnoloogiat võimaldada.
Calibre Computational Lithography Tooted
Nii litograafilised väljakutsed kui ka arenenud protsessisõlmedega seotud arvutuslik keerukus tekitavad vajaduse arvutusliku litograafia tarkvara ja riistvara täiustatud võimaluste järele. Calibre lahendus pakub oma klassi parimat täpsust, kiirust ja omamiskulusid.
Toode
all
Calibre nmOPC
Tihe optiline lähedus ja protsessi korrigeerimine sügava submikronite tootmise võimaldamiseks.
Toode
all
Calibre nmSRAF
Sisestab kujundusse alameraldusvõime abivahendid (SRAF-id).
Toode
all
Calibre OPCverify
Võimas täiskiibi simulatsioon ja litograafiline analüüs.
Toode
all
Calibre WORKbench
GUI kasutatakse mitmesuguste rakenduste käivitamiseks ja tulemuste vaatamiseks.
Toode
all
Kaliiber NMModelFlow
Väga skaleeritav kalibreerimismootor optiliste, resistentsete ja söövitusmudelite jaoks.
Toode
all
Calibre pxOPC
Kiire, pöördpikslipõhine optiline läheduse korrigeerimine.
Toode
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Lihtne kasutada GUI valgustusallika optimeerimiseks.