Calibre IC Manufacturing Lahendused

elik otsast lõpuni lahendus, mis sisaldab kõiki kõverjooneliste andmete ettevalmistamise etappe alates ümbersihtimisest kuni SRAF-i, OPC, MPC ja MDP-ni, mis vastab erirakenduste (SiPH) ja mälukujunduse kõverjooneliste maskide genereerimise vajadustele.

Tehnoloogia võimaldab fotoolitograafiaprotsesse, sealhulgas äärmuslikku ultraviolettkiirgust (EUV). Calibre arvutuslitograafia tööriistad pakuvad paremat täpsust, kiirust ja väiksemaid omamiskulusid.

Võimaldab maskiandmevormingu teisendamise ja kontrollimise ülesandeid maskide valmistamiseks, sealhulgas uusimaid mitme kiire maskivorminguid täielikult ühilduval Calibre platvormil.

Pakub optimeerimist e-kiire maskide kirjutajatele. Uued korrigeerimis- ja modelleerimisvõimalused parandavad täiustatud sõlmede maski kriitilise mõõtme lineaarsust ja ühtlust.

Vastab tootmise läbilaskevõime ja süsteemi kasutamise juhtimise väljakutsetele, saavutades samal ajal kiire pöördeaeg hoolimata üha suurenevast keerukusest ja andmemahtudest.

Parandab toote tootlust ja tagab kiirema kiiruse, struktureerides ja analüüsides tohutuid andmehulgi, luues ennustavaid masinõppe mudeleid ja genereerides toimivat analüüsi.

Calibre pakub täielikku vooluinfrastruktuuri lahendust, mis tagab suurepärase tööaja ja järjepidevuse, et vastata mäluseadmete ja väga korduvate massiividega toodete tootmisnõuetele.

Calibre DFM tööriistakomplekt sisaldab saagikuse analüüsi, prinditavust ja jõudluse valideerimise tööriistu, et suurendada saagikust ja optimeerida IC-kujundusi.