Motor OPC curvilíneo
El motor OPC curvilíneo Calibre puede convertir formas rectangulares en patrones curvilíneos y asegurarse de que se alcance el objetivo EPE. Realiza comprobaciones de impresión SRAF para formas curvas y aplica restricciones MRC simultáneamente para garantizar la generación de máscaras curvilíneas de alta calidad.
Solución OPC curvilínea rápida de chip completo
Calibre nmCLOPC permite el flujo OPC curvilíneo ILT híbrido que ofrece la calidad litográfica requerida con un tiempo de ejecución más rápido que con una solución ILT completa. Este flujo se puede utilizar para generar máscaras curvilíneas necesarias para la fotónica de silicio, o para diseños rectilíneos para lógica o memoria.
Representación poligonal curvilínea nativa
A diferencia de los motores OPC tradicionales que se basan en el movimiento de borde de Manhattan, Calibre nmCLOPC aplica la representación poligonal curvilínea nativa con splines Bezier y realiza una corrección basada en splines moviendo una “curva OPC”. Este nuevo formato no solo beneficia la mejora de la precisión, sino que también mitiga la explosión del tamaño de los datos introducida por las máscaras curvilíneas.
Soluciones avanzadas de modelado OPC para máscaras curvilíneas
El modelo de núcleo Calibre OPC puede modelar con precisión los efectos de campo electromagnético 3D de la máscara para máscaras curvilíneas. El uso de contornos SEM para la calibración del modelo a patrones curvilíneos le permite describir el comportamiento real en la oblea. La avanzada tecnología Calibre nmCLOPC maximiza los derechos de litografía y logra la precisión OPC requerida.
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