Descripción general
Calibre NMCLMPC
La corrección del proceso de máscara (MPC) garantiza la fidelidad del patrón de máscara de la fabricación avanzada de máscaras de nodo. Calibre nmCLMPC proporciona la capacidad necesaria para la corrección del proceso de máscara curvilínea para cumplir con las expectativas de precisión de corrección, así como de tiempo de procesamiento.
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Corrección del proceso de máscara (MPC) para diseños curvilíneo
Calibre nmCLMPC realiza la corrección de procesos de máscara (MPC) para diseños de entrada con polígonos curvilíneos, como los producidos por Inverse Lithography Technology (ILT) OPC, así como estructuras fotónicas de silicio.
Fragmentación innovadora basada en la curvatura
La fragmentación basada en la curvatura en el motor Calibre NMCLMpc determina la longitud del fragmento de borde en función de la curvatura local y proporciona una salida factible para la corrección de MPC curvilínea. Esta función intenta co-optimizar el tamaño del archivo, la precisión y el tiempo de ejecución para la corrección del proceso de máscara curvilínea.

Opción para lograr una convergencia rápida
Calibre nmCLMPC se puede utilizar con prepolarización basada en curvatura para permitir una convergencia rápida para MPC curvilíneo. El método de prepolarización basado en curvatura reduce el número de iteraciones necesarias sin degradar la precisión de corrección y ahorra tiempo de ejecución.

Capacidad de corrección simultánea
Calibre nmCLMPC puede corregir formas curvilíneas y rectangulares de una sola vez aplicando las mismas reglas que en una receta estándar a las formas rectangulares.

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