¿Por qué Calibre nmCLBIAS?
A medida que la litografía avanzada va más allá de las geometrías tradicionales de Manhattan, las realidades de las máscaras y las obleas ya no coinciden con la intención idealizada del diseño rectilíneo. Con esquinas redondeadas, creciente complejidad de patrones y el aumento de los flujos de máscaras curvilíneas habilitados por los escritores de máscaras de haz múltiple, Calibre nmCLBIAS ayuda a respaldar el cambio de la industria hacia una representación de patrones más precisa y fabricable para procesos de próxima generación.
