La generación de formas curvilíneas de máscara en corrección óptica de proximidad (OPC) en lugar de formas rectangulares puras se está volviendo cada vez más realista como método para mejorar el rendimiento de la litografía de obleas. El principal beneficio de usar formas curvilíneas es una ventana de proceso mejorada, lo que significa que la imagen de la oblea es menos sensible a las condiciones de dosis y enfoque durante la exposición. Con el mayor poder de cómputo de los últimos clústeres de alto rendimiento y la disponibilidad de escritores de máscaras multihaz (MBMW), esos beneficios de litografía de obleas se pueden obtener en los nodos tecnológicos que se están desarrollando actualmente.
Un desafío muy práctico para poner máscaras con formas curvilíneas en producción es la disponibilidad de comprobaciones confiables de reglas de máscaras (MRC). El motor OPC no solo necesita generar formas que sean fabricables, sino que el taller de mascarillas también necesita un método para verificar que los datos de la máscara entrantes son fabricables. Para las formas de máscara curvilíneas, esto es más desafiante que para las formas de máscara rectangulares, ya que las comprobaciones simples de ancho y espacio ya no son suficientes.
En este documento, discutimos un conjunto completo de límites MRC y demostramos la efectividad de un motor MRC que opera con datos de entrada curvilíneo. Las Rules utilizadas aquí incluyen el ancho mínimo de las características expuestas, el espacio mínimo entre las características expuestas, la curvatura mínima de las formas convexas y cóncavas, así como el área mínima de las características expuestas.
