Los escritores de máscaras multihaz (MBMW) permiten el uso de formas curvilíneas ideales para máscaras de litografía inversa (ILT), pero los formatos de diseño actuales no son suficientes para representar diseños ILT complejos de manera eficiente, desde la corrección óptica de proximidad (OPC) hasta la fabricación de máscaras. En 2019, iniciamos un grupo de trabajo sobre formato de datos para abordar la necesidad de representación de datos curvilíneo para MBMW. El grupo de trabajo Curvilinear Data Format cuenta con miembros de empresas EDA y fabricantes avanzados de mascarillas. En este documento, se presentará la necesidad de un nuevo formato de datos curvilíneos y los objetivos de nuestro grupo de trabajo. Discutiremos el progreso y el plan del grupo de trabajo. Una versión de este documento se presentó en la conferencia IEEE SPIE en 2021 y se publicó en las actas de la conferencia.



