Calibre IC Manufacturing Soluciones

Una solución completa de extremo a extremo que incluye todos los pasos de preparación de datos curvilíneos, desde retargeting hasta SRAF, OPC, MPC y MDP, que aborda las necesidades de generación de máscaras curvilíneas de aplicaciones especializadas (SiPH) y diseños de memoria.

Habilitación tecnológica para procesos de fotolitografía, incluido el ultravioleta extremo (EUV). Las herramientas de litografía computacional Calibre ofrecen mayor precisión, velocidad y menor costo de propiedad.

Permite realizar tareas de verificación y conversión de formato de datos de máscara para la fabricación de máscaras, incluidos los últimos formatos de máscara multihaz en una plataforma Calibre totalmente compatible.

Proporciona optimizaciones para los escritores de máscaras de haz electrónico. Las nuevas capacidades de corrección y modelado mejoran la linealidad y uniformidad de las dimensiones críticas de la máscara para nodos avanzados.

Satisface los desafíos del rendimiento de producción y la administración de la utilización del sistema, a la vez que logra tiempos de respuesta rápidos a pesar de la complejidad y los volúmenes de datos cada vez mayores.

Mejora el rendimiento del producto y proporciona una rampa más rápida mediante la estructuración y el análisis de cantidades masivas de datos, la creación de modelos predictivos de aprendizaje automático y la generación de análisis procesables.

Calibre ofrece una solución completa de infraestructura de flujo que ofrece un tiempo de ejecución y consistencia superiores para satisfacer los requerimientos de fabricación de dispositivos y productos de memoria con arreglos de discos altamente repetitivos.

El conjunto de herramientas Calibre DFM incluye análisis de rendimiento, capacidad de impresión y herramientas de validación del desempeño para mejorar el rendimiento y optimizar los diseños de IC.