La gestión de datos de ingeniería para empaquetado IC (EDM-P) es una nueva capacidad opcional que proporciona control de revisión de entrada/salida para las bases de datos i3D y xPD. EDM-P también administra el archivo de “instantánea” de integración, así como todos los archivos fuente IP de diseño utilizados para construir un diseño como CSV, Verilog, Lef/Def, GDSII y OASIS. El uso de EDM-P permite que los equipos de diseño colaboren y realicen un seguimiento de toda la información y metadatos de las carpetas y archivos de ICP Project. Permite al equipo de diseño verificar exactamente qué archivos de origen se usaron en el diseño antes de que se graben para eliminar errores.

Novedades en el embalaje de semiconductores 2504
2504 es una versión completa que reemplaza las versiones 2409 y 2409 actualización #3. 2504 incluye las siguientes características y capacidades nuevas en Innovator3D IC (i3D) y Xpedition Package Designer (xPD).
Novedades de Innovator3D IC 2504 actualización 1
2504 La actualización 1 es una versión completa que reemplaza a las versiones base 2504 y 2409 y todas sus actualizaciones posteriores. Descargue la hoja informativa completa para obtener más información sobre las últimas características de esta actualización.

Innovator 3D IC 2504 Actualización 1
El cálculo de la densidad del metal se introdujo en la versión 2504 de referencia. Esta actualización incluye un cálculo de promedio de ventana deslizante que se utiliza para predecir la deformación del paquete.
Con esta capacidad, puede inspeccionar la densidad media del metal en el área de diseño para ver dónde se debe agregar o quitar metal para minimizar el riesgo de deformación del sustrato.
Esta nueva opción permite al diseñador establecer el tamaño de la ventana y el paso de cuadrícula. El usuario también puede seleccionar un modo de degradado que se puede usar con mapas de colores personalizados para obtener un color degradado que se interpole automáticamente entre los colores fijados en su mapa de color.
Esto es parte del uso del plano de planta como un dado virtual que puede instanciar jerárquicamente en otro plano de planta. Durante la importación Lef/Def, ahora puede optar por generar una interfaz para hacerlo.
Ahora tenemos una función “Agregar nuevo diseño de matriz” para crear un VDM (modelo de matriz virtual) basado en un plano de planta. El nuevo VDM basado en planos de planta es multiproceso y tiene un rendimiento mucho mayor para troqueles grandes.
Lanzado inicialmente con la versión 2504, exportamos Interposer Verilog y Lef Def para impulsar herramientas IC Place & Route como Aprisa con el propósito de enrutar interposadores de silicio utilizando un PDK de fundición.
En esta versión, hemos llevado esto un paso más allá al proporcionar también IC de nivel de dispositivo P&R Lef/Def/Verilog.
Esto es valioso si tiene un puente de silicio o un interposador de silicio en su diseño y necesita enrutarlo usando una herramienta IC P&R con un PDK suministrado por fundición.
Para hacer esto, desea ir a la definición del dispositivo Silcon bridge/interposer y exportar LEF con definiciones de padstack y DEF con pines como instancias de esos padstacks y Verilog con puertos de “señal funcional” conectados por redes internas y pines representados como instancias de módulo.
En esta versión, agregamos capacidades y soporte GUI para esto: Marque la casilla de verificación “Exportar como definiciones de padstack”.
Puede proporcionar una lista de capas que desea ver en la macro y controlar el nombre del pin exportado.
En 2504 lanzamos el primer paso en nuestra generación automatizada de planes de bocetos.
En esta versión, formamos grupos de pines de manera inteligente y los conectamos al lado óptimo de la matriz para escapar con el plano de boceto.
Arquitectura avanzada de clústeres
- Implementó un sofisticado enfoque de agrupamiento bifásico
- Organización de pines mejorada a través del análisis de doble componente (origen y destino)
- Detección inteligente de puntos atípimos y mecanismos de filtrado
Esto ofrece resultados de agrupamiento de pines precisos y lógicos, lo que lleva a una mayor eficiencia y menos ajustes manuales.
Cálculos de punto de inicio/fin para planos de bocetos:
Mejoras significativas realizadas en la forma en que se planifican las conexiones entre componentes, haciéndolos más naturales y eficientes.
Algunas características clave para la generación de planes de bocetos en esta versión incluyen:
- Uso de formas basadas en el patrón de los grupos de pines en lugar de solo rectángulos
- Manejo de patrones irregulares de grupos de pines
- Creación de puntos de conexión en el punto inicial y final del plan de esbozo escapando fuera de los contornos del componente
Encontrar los mejores puntos de conexión
- Teniendo en cuenta la forma formada por grupos de alfileres
- Localización del punto en el que la forma se acerca más al borde del contorno del componente
- Selección de la mejor ubicación que le dará el camino más corto posible
Lanzamiento Innovator3D IC 2504
i3D ahora importa y exporta archivos 3DBlox que contienen un conjunto de paquete completo que admite las tres etapas de datos (Blackbox, Lef/Def, GDSII). i3D también puede crear y editar datos 3DBLOX, lo que le permite impulsar el ecosystem de diseño, análisis y verificación posteriores. Tiene un depurador integrado que puede identificar problemas de sintaxis de 3DBlox durante la lectura de 3DBlox, lo cual es muy útil cuando se trata de archivos 3DBlox de terceros.
Para permitir que la planificación y el análisis predictivos ofrezcan resultados más procesables, hemos introducido una serie de nuevas capacidades, como la creación de prototipos de energía y planos terrestres y la capacidad de importar el formato de energía unificado (UPF) para permitir un SI/PI y un análisis térmico más precisos. Como las pruebas son un gran desafío en la integración heterogénea de múltiples chiplets, hemos integrado la capacidad de múltiples troqueles de Tessent para la planificación del diseño para pruebas (DFT).
Los diseñadores ahora pueden analizar la densidad del metal en todos los dispositivos y planos de planta, lo que permite el desarrollo de patrones de protuberancias que minimizan la deformación y el estrés. La función informa la densidad en números así como en gráficos superposición. Los diseñadores pueden ajustar la precisión para cambiar la precisión frente a la velocidad.
Uno de los principales objetivos de la nueva experiencia de usuario introducida en 2409 era mejorar la productividad del diseñador. Como parte de eso, estamos introduciendo comandos predictivos basados en IA, que aprenden cómo un usuario diseña y predice el comando que puede querer usar a continuación.
A medida que los paquetes avanzados se hacen más grandes, incorporando más circuitos integrados específicos de aplicaciones (ASIC), chiplets y memoria de alto ancho de banda (HBM), la conectividad aumenta drásticamente, lo que dificulta que los diseñadores optimicen esa conectividad para el enrutamiento. La optimización de conectividad estaba disponible en la primera versión de Innovator3D IC, pero pronto quedó claro que los diseños estaban superando sus capacidades. Esto llevó al diseño inicial de un nuevo motor de optimización que puede manejar la complejidad emergente de los diseños, incluidos los pares diferenciales.
La vista de plano de planta 3D existente es la manera más fácil de verificar el dispositivo y el apilamiento de capas de su diseño. Ahora es más fácil verificar visualmente el ensamblaje de su dispositivo con el nuevo control de elevación del eje z. Esto tiene en cuenta el tipo de componente, la forma de celda, las capas de apilamiento, la orientación y la definición de las pilas de piezas.
Versión 2504 de Xpedition Package Designer
Mejora continua del rendimiento de edición interactiva en escenarios específicos de desarrollo de software:
- Mover trazas de ángulos impares en redes grandes: hasta un 77% más rápido
- Trace el movimiento del segmento hacia la ubicación original después del rastreo de empujones, hasta 8 veces más rápido
- Bus de rastreo de arrastre que incluye enormes trazas de blindaje de red, hasta 2 veces más rápido
- Brillo enorme de trazas netas: hasta 10 veces más rápido
- Ediciones interactivas de la red de pedidos forzados en el diseño de paquetes grandes cuando las autorizaciones activas están habilitadas, hasta 16 veces más rápido
A menudo, el análisis detallado, como el modelado electromagnético tridimensional (3DEM), solo se requiere en un área específica del diseño. La producción de todo el diseño lleva mucho tiempo y, a menudo, puede ser lenta. Esta nueva capacidad permite la exportación de áreas específicas de diseño de diseño que requieren simulación o análisis, lo que hace que el intercambio de información entre el diseño y HyperLynx sea más eficiente.
Los diseñadores ahora pueden filtrar los componentes eDTC de los archivos ODB++ generados utilizados para la fabricación de sustratos.
Descargue el comunicado
Nota: El siguiente es un resumen resumido de los aspectos más destacados de la versión. Los clientes de Siemens deben consultar los aspectos más destacados de la versión en Centro de soporte para obtener información detallada sobre todas las nuevas características y mejoras.