En la última década, la tecnología fotónica ha sido una tecnología emergente para las telecomunicaciones ópticas y las interconexiones ópticas en la microelectrónica. Como resultado, una gran diversidad de metodologías de diseño fotónico se ha fusionado con escalas y formas muy desafiantes. La fabricación de estas formas fotónicas críticas y curvas requiere técnicas avanzadas de mejora de la resolución (RET), incluidas técnicas de litografía inversa (ILT) con litografía por inmersión de 193 nm. En este artículo, investigamos los desafíos de fabricación de varios dispositivos fotónicos mediante soluciones de ILT avanzadas y el impacto de la inserción del SRAF en la obtención de una buena calidad de litografía, incluidos el error de colocación de los bordes (EPE), la banda PV y la rugosidad de los bordes de línea (LER). Vamos a demostrar cómo nuestras soluciones de ILT de Calibre permiten la fabricación de los diseños fotónicos más desafiantes.
