Descripción general
Calibre NmclMPC
La corrección del proceso de máscaras (MPC) garantiza la fidelidad del patrón de máscaras de la fabricación avanzada de máscaras de nodos. El calibre Nmclmpc proporciona la capacidad necesaria para corregir el proceso de máscara curvilínea para cumplir con las expectativas de precisión de la corrección y de tiempo de procesamiento.
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Corrección del proceso de máscara (MPC) para diseños curvilíneos
Calibre nmclMPC realiza la corrección del proceso de máscara (MPC) para diseños de entrada con polígonos curvilíneos, como los producidos por la tecnología de litografía inversa (ILT) OPC, así como para estructuras fotónicas de silicio.
Innovadora fragmentación basada en la curvatura
La fragmentación basada en la curvatura del motor Calibre NmclMPC determina la longitud de los fragmentos de arista en función de la curvatura local y proporciona una salida factible para la corrección curvilínea del MPC. Esta función intenta optimizar conjuntamente el tamaño, la precisión y el tiempo de ejecución del archivo para corregir el proceso de máscara curvilínea.
Opción de lograr una convergencia rápida
Calibre NmclMPC se puede utilizar con un presesgo basado en la curvatura para permitir una convergencia rápida del MPC curvilíneo. El método de presesgo basado en la curvatura reduce el número de iteraciones necesarias sin degradar la precisión de la corrección y ahorra tiempo de ejecución.
Capacidad de corrección simultánea
Calibre NmclMPC puede corregir formas curvilíneas y rectangulares de una sola pasada aplicando las mismas reglas que en una receta estándar a las formas rectangulares.
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