Generar formas de máscara curvilíneas con corrección óptica de proximidad (OPC) en lugar de formas rectangulares puras es cada vez más realista como método para mejorar el rendimiento de la litografía en obleas. La principal ventaja de utilizar formas curvilíneas es la mejora de la ventana de proceso, lo que significa que la imagen de la oblea es menos sensible a las condiciones de dosis y enfoque durante la exposición. Con el aumento de la potencia de cálculo de los últimos clústeres de alto rendimiento y la disponibilidad de las grabadoras de máscaras multihaz (MBMW), esas ventajas de la litografía de obleas se pueden obtener en los nodos tecnológicos que se están desarrollando actualmente.
Un desafío muy práctico para la producción de máscaras con formas curvilíneas es la disponibilidad de comprobaciones fiables de las reglas de máscara (MRC). El motor OPC no solo necesita generar formas que se puedan fabricar, sino que el taller de máscaras también necesita un método para comprobar que los datos de máscaras entrantes se pueden fabricar. Para las formas de máscara curvilíneas, esto es más difícil que para las formas de máscara rectangulares, ya que las simples comprobaciones de ancho y espacio ya no son suficientes.
En este artículo, analizamos un conjunto completo de límites de MRC y demostramos la eficacia de un motor MRC que funciona con datos de entrada curvilíneos. Las reglas utilizadas aquí incluyen el ancho mínimo de los elementos expuestos, el espacio mínimo entre los elementos expuestos, la curvatura mínima de las formas convexas y cóncavas, así como el área mínima de los elementos expuestos.
